[实用新型]烫印膜有效
| 申请号： | 201920434555.5 | 申请日： | 2019-04-02 |
| 公开（公告）号： | CN209775889U | 公开（公告）日： | 2019-12-13 |
| 发明（设计）人： | 朱昊枢;叶瑞;孙营春;仲俊峰;朱志坚;陈林森 | 申请（专利权）人： | 苏州苏大维格科技集团股份有限公司;湖北强大包装实业有限公司 |
| 主分类号： | B41M5/025 | 分类号： | B41M5/025 |
| 代理公司： | 32295 苏州谨和知识产权代理事务所(特殊普通合伙) | 代理人： | 唐静芳 |
| 地址： | 215000 江苏*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 透明介质层 信息层 局部镭射 镭射效果 热熔胶层 烫印膜 油墨层 本实用新型 微纳结构 依次设置 有效防伪 基膜层 离型层 镭射 多样性 | ||
【权利要求书】：
1.一种烫印膜，其特征在于，包括自上而下依次设置的基膜层、离型层、信息层、透明介质层以及热熔胶层，在所述透明介质层和热熔胶层之间还设有油墨层。
2.如权利要求1所述的烫印膜，其特征在于，所述信息层上设有用以形成镭射区域的微纳结构。
3.如权利要求2所述的烫印膜，其特征在于，所述镭射区域包括局部镭射区域。
4.如权利要求2所述的烫印膜，其特征在于，所述镭射区域包括通版镭射区域。
5.如权利要求2所述的烫印膜，其特征在于，所述镭射区域包括局部镭射区域和通版镭射区域。
6.如权利要求1所述的烫印膜，其特征在于，所述基膜层的厚度为10～100μm。
7.如权利要求1所述的烫印膜，其特征在于，所述信息层的厚度为0.1～20μm。
8.如权利要求1至7中任一项所述的烫印膜，其特征在于，所述透明介质层选自硫化锌、二氧化钛或氟化镁中的一种。
9.如权利要求8所述的烫印膜，其特征在于，所述透明介质层的厚度为30～40nm。
10.如权利要求1至7中任一项所述的烫印膜，其特征在于，所述基膜层为薄膜结构，所述基膜层为PET膜层。
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