[实用新型]一种粉体处理设备

说明书

本实用新型涉及一种粉体处理设备，该设备包括真空腔、U型电极、转料鼓、电源、传动装置、进气孔、出气孔及格架；所述U型电极、转料鼓、传动装置均设置在所述真空腔内；所述转动装置带动所述转料鼓转动；所述U型电极与所述真空腔之间设有绝缘层，所述绝缘层厚度为2～5mm；所述U型电极与所述电源正极连接，所述真空腔接地；所述格架设置在所述转料鼓内，所述转料鼓四周均匀设置交换孔；本实用新型提高粉体在处理过程中的分散性，避免粉体堆积、结块，能够均匀处理粉体表面，处理效率高，处理效果好。

技术领域

本实用新型涉及等离子体处理技术领域，具体地说是一种粉体处理设备。

背景技术

等离子体表面处理：在密封容器中设置两个电极形成电场，用真空泵实现一定的真空度，随着气体愈来愈稀薄，分子间距及分子或离子的自由运动距离也愈来愈长，受电场作用，产生等离子体。等离子体是物质的第四态，其中含有大量的电子、离子和自由基等各种活性粒子，活性粒子与材料表面发生物理和化学反应，从而使材料表面的结构、成分和基团发生变化，得到满足实际使用要求的表面。等离子体反应速度快、处理效率高，而且改性仅发生在材料表面，对材料内部本体材料的性能没有影响，是理想的表面改性手段。

粉体是一种由干燥、分散的固体颗粒组成的细微粒子，由于粉体分子间的作用力，当粉末颗粒粒径很小时，极易在空气中粘结成团，特别是微米、亚微米级的超细粉末，这种现象对粉体的加工过程极为不利。

用等离子体处理粉体和颗粒已有多年实践，等离子体处理可改善粉体和颗粒材料的各种化学和/或物理特性，例如氧化、还原、交联、解吸、蚀刻、接枝和/或聚合等性能。由于粉体物料的特殊性质，在对其进行等离子体表面处理时，由于微粒间的团聚和颗粒间的堆积，使得没有暴露在等离子体气氛中的表面得不到处理，因此难以实现单个微粒表面得到全部的处理，导致处理均匀性差，处理效率低，处理效果差。同时，用等离子体处理粉体或颗粒的现有设备结构各异，但它们都有明显缺点，如操作复杂、处理过程中存在处理盲区等。

如中国专利CN202205700U公开了一种颗粒状材料表面低温等离子体处理装置，包括转鼓、电极组、进气口、挡板以及等离子体发生电源，所述转鼓内壁固定有挡板，转鼓外设有环形板电极组，在转鼓的两端设有进气口和抽气口。该装置尽管可以实现对材料表面进行等离子体处理，但转鼓在旋转的过程中材料容易集中在转鼓下端，导致下端的材料处理不完全，出现处理盲区。

因此，如何提供一种粉体处理设备，以实现提高粉体在处理过程中的分散性，能够均匀处理粉体表面，处理效率高，处理效果好，装卸料简单，操作方便，是目前本领域技术人员亟待解决的技术问题。

实用新型内容

有鉴于此，本申请的目的在于提供一种粉体处理设备，以实现提高粉体在处理过程中的分散性，能够均匀处理粉体表面，处理效率高，处理效果好，装卸料简单，操作方便。

为了达到上述目的，本申请提供如下技术方案。

一种粉体处理设备，包括真空腔、U型电极、转料鼓、电源、传动装置、进气孔、出气孔及格架；

所述U型电极、转料鼓均设置在所述真空腔内；所述传动装置带动所述转料鼓转动；

所述U型电极与所述真空腔之间设有绝缘层，所述绝缘层厚度为2～5mm；

所述U型电极与所述电源正极连接，所述真空腔接地；

或者所述U型电极下端设置有与其隔离的平板电极，平板电极与真空腔之间设置绝缘层，所述平板电极接地；

所述格架设置在所述转料鼓内，所述转料鼓四周均匀设置交换孔。

优选地，所述进气孔和出气孔分别设置在所述真空腔上，且在所述U型电极与真空腔相对的位置也分别设置与所述进气孔和出气孔相同大小的孔径。

优选地，所述转料鼓前、后两端均设有端盖，方便更换处理粉体。