[实用新型]一种烹饪装置及其上盖有效
申请号: | 201920405425.9 | 申请日: | 2019-03-27 |
公开(公告)号: | CN209846882U | 公开(公告)日: | 2019-12-27 |
发明(设计)人: | 任祥喜;王志锋;黄庶锋;刘文华;黄韦铭;郑量;杜放 | 申请(专利权)人: | 佛山市顺德区美的电热电器制造有限公司 |
主分类号: | A47J27/00 | 分类号: | A47J27/00;A47J36/06;A47J36/24 |
代理公司: | 44280 深圳市威世博知识产权代理事务所(普通合伙) | 代理人: | 李庆波 |
地址: | 528311 广东省*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 发热层 上盖 烹饪装置 本实用新型 基板组件 食材 加热 通电 体内 发热均匀性 能量利用率 发热效果 暴露 | ||
1.一种烹饪装置的上盖,其特征在于,所述上盖包括基板组件和发热层,所述发热层为均匀且连续的膜,所述发热层结合于所述基板组件且不暴露于所述上盖的外表面,并且在通电时产生热量以实现对所述烹饪装置的腔体内的食材的加热。
2.根据权利要求1所述的上盖,其特征在于,所述基板组件包括基板,所述发热层设置于所述基板远离所述烹饪装置的腔体的一侧。
3.根据权利要求1所述的上盖,其特征在于,所述基板组件包括相对设置的第一基板和第二基板,所述发热层设置于所述第一基板靠近所述第二基板和/或所述第二基板靠近所述第一基板的一侧。
4.根据权利要求3所述的上盖,其特征在于,所述第一基板与所述第二基板之间的距离大于0mm,且小于或等于5mm,所述第一基板与所述第二基板之间为真空状态或非真空状态。
5.根据权利要求1-4任一项所述的上盖,其特征在于,所述发热层通过喷涂方式形成于所述基板组件上。
6.根据权利要求1-4任一项所述的上盖,其特征在于,所述发热层为柔性或刚性发热膜,通过卡扣或粘贴方式固定于所述基板组件上。
7.根据权利要求1-4任一项所述的上盖,其特征在于,所述基板组件的截面积为S,所述发热层的截面积为S1,其中,1/9S≤S1≤S。
8.根据权利要求1-4任一项所述的上盖,其特征在于,所述发热层的功率密度为0.1W/cm2-5.5W/cm2,所述发热层在所述烹饪装置处于保温状态时的平均输出功率为10-60W。
9.根据权利要求1-4任一项所述的上盖,其特征在于,所述发热层为PI发热膜、氧化烯发热膜、石墨烯发热膜或远红外发热膜。
10.一种烹饪装置,其特征在于,所述烹饪装置包括根据权利要求1-9任一项所述的上盖。
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