[实用新型]一种改善白色像素点的隔离结构有效

专利信息
申请号: 201920391846.0 申请日: 2019-03-26
公开(公告)号: CN209729908U 公开(公告)日: 2019-12-03
发明(设计)人: 李晓玉;秋沉沉 申请(专利权)人: 上海华力微电子有限公司
主分类号: H01L27/146 分类号: H01L27/146
代理公司: 31272 上海申新律师事务所 代理人: 俞涤炯<国际申请>=<国际公布>=<进入
地址: 201314*** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 隔离结构 白色像素 源区 接触式图像传感器 本实用新型 逻辑区 半导体制造技术 相邻有源区 漏电 多个器件 改变器件 器件区 污点 复数 抽取 隔离
【权利要求书】:

1.一种改善白色像素点的隔离结构,适用于接触式图像传感器,所述接触式图像传感器包括复数个有源区,其特征在于,包括:

每个所述有源区上包括多个器件区及与所述器件区一一对应的逻辑区;

每个所述有源区中设有连接相邻有源区中位置对应的逻辑区的多个隔离结构。

2.根据权利要求1所述的改善白色像素点的隔离结构,其特征在于,所述隔离结构的中部至少设置一个凸起。

3.根据权利要求2所述的改善白色像素点的隔离结构,其特征在于,所述隔离结构的中部设置两个所述凸起,且两个所述凸起对称分布于所述隔离结构的两侧。

4.根据权利要求1所述的改善白色像素点的隔离结构,其特征在于,所述隔离结构由P型离子注入。

5.根据权利要求1所述的改善白色像素点的隔离结构,其特征在于,所述隔离结构连接所述逻辑区接地端。

6.根据权利要求1所述的改善白色像素点的隔离结构,其特征在于,至少两个所述有源区水平平行设置。

7.根据权利要求1所述的改善白色像素点的隔离结构,其特征在于,至少两个所述隔离结构相对于所述有源区竖直平行设置。

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