[实用新型]一种蒸镀沉积设备

说明书

本实用新型提供一种蒸镀沉积设备，包括：一个沉积腔体；设置于所述沉积腔体内的基板保持装置，用于固定保持基板；线型蒸镀源，所述线型蒸镀源包括一个容纳装置，用于容纳蒸镀材料，所述容纳装置包括一个容纳槽和多个盖板，所述多个盖板中的每个盖板可和所述容纳槽组装或拆分，所述容纳槽每次和所述多个盖板中的一个盖板进行组装；所述每个盖板上设置有多个喷嘴，所述多个盖板的喷嘴分布各不相同；所述多个盖板中的每个盖板和所述容纳槽组装后，所述盖板的多个喷嘴都和所述容纳槽的内部相通；旋转机构，所述旋转机构使所述基板和所述线型蒸镀源绕所述基板的中心轴相对转动。

技术领域

本实用新型涉及一种蒸镀沉积设备，更具体地，涉及一种提高薄膜沉积覆盖性能的蒸镀沉积设备。

背景技术

有机发光显示装置包括阳极、阴极和设置于阳极和阴极之间的有机膜层，有机膜层中包括多层堆叠的有机材料层，如有机发光层、电子注入层、电子传输层、空穴传输层、空穴注入层等。有机膜层通常是通过蒸镀沉积成膜的方式形成的，现有技术中蒸镀沉积设备分为两种，一种是点源蒸镀沉积设备，一种是线源蒸镀沉积设备。

图1为现有技术中一种点源蒸镀沉积设备的示意图，如图所示，包括一个沉积腔体101，在沉积腔体101内设置有基板保持装置102，基板保持装置102固定保持一基板103；沉积腔体101内设置有多个点蒸镀源，图1中示出了两个点蒸镀源105和106，点蒸镀源105包括一个容纳装置1051和设置于容纳装置1051上的喷嘴1052，在点蒸镀源105上还设置有一个蒸镀速率监控器107，用于监控喷嘴1052升华蒸镀材料的速率。同样地，点蒸镀源106也对应设置的有容纳装置1061、喷嘴1062、蒸镀速率监控器108。由于从喷嘴1052、1062喷出的升华蒸镀材料的浓度分布是从喷嘴中心位置到两侧位置递减的，并且在垂直于喷嘴的平面上，越靠近喷嘴该浓度差越大，因此要将点蒸镀源105和106偏离基板103设置，让升华的蒸镀材料在沉积腔体101扩散均匀后在沉积附着在基板103上。在蒸镀沉积过程中，基板保持装置102带动基板103围绕其中心轴转动，点蒸镀源105和106喷出的升华蒸镀材料扩散后在基板103上沉积成膜。点源蒸镀沉积设备的缺点是，第一、点源蒸镀沉积设备的容纳装置的容量较小，一般在250立方厘米左右，每次蒸镀材料使用完后都要进行材料补充、蒸镀速率调试等工作，大大限制了生产时间；第二、因点蒸镀源是相互独立的，要确认每个点蒸镀源对膜层厚度的影响必须对每个点蒸镀源单独进行调试，蒸镀速率调试占用时间长；第三、每个点蒸镀源要单独设立膜厚监控器，设备造价高。

图2为现有技术中一种线源蒸镀沉积设备的示意图，如图所示，在沉积腔体内，基板1的长度方向和线型蒸镀源10的长度方向平行设置，线型蒸镀源10上设置有多个喷嘴。在蒸镀沉积过程中，基板1或者线型蒸镀源10沿着扫描方向移动，线型蒸镀源10各喷嘴喷出的升华蒸镀材料扩散后在基板1上沉积成膜。线源蒸镀沉积设备的缺点是成膜的覆盖性差。在有机发光显示基板上设置有像素单元区域和像素单元间隔区域，在像素单元间隔区域设置有凸起的像素定义层，在蒸镀工艺中，要使用精细金属掩膜板遮挡基板1的像素单元间隔区域暴露出像素单元区域，让升华的蒸镀材料沉积在像素单元区域，但因为精细金属掩膜板的边角对像素单元区域边角的遮挡，即“阴影效应”的影响，蒸镀材料在像素单元区域边角的成膜薄，并且凸起的像素定义层也对像素单元区域成膜具有“阴影效应”，因为基板1和线型蒸镀源10是相对线性运动的，该“阴影效应”造成的影响没有办法进行补偿，所以有机膜层难以覆盖像素单元区域边角以及像素定义层的侧壁进而造成显示不良，对于小尺寸高分辨率的有机发光显示装置来说更为严重。另外，线型蒸镀源10上的多个喷嘴是固定的，如果多个喷嘴的分布不适用当前成膜工艺不符合工艺标准要求，需要将整个线型蒸镀源10替换掉，设备造价高。

实用新型内容