[实用新型]一种新型镀膜设备

说明书

本实用新型提供了一种新型镀膜设备，包括过滤器、输料管、料斗和传送基片的传送带，所述料斗包括外壳和两片内壳，所述外壳呈倒置的楔形，其内部中空，底部设有条形开口，所述内壳与外壳的内侧壁滑动连接，其底部从外壳开口处探出，两片内壳底部相对的两面相互平行，当两片内壳的底部相接时，料斗的底部完全封闭。该新型镀膜设备，通过镀膜液与基片间接触时形成的液面结构，在玻璃基片表面达到镀膜液的均匀涂覆，且玻璃基片水平放置，镀膜液位于玻璃基片上表面，使镀层在重力的作用下进一步扩展铺平，镀膜液的利用率高，涂覆厚度方便可控，适用于大面积玻璃的镀膜，且不易产生坏点。

技术领域

本实用新型涉及玻璃生产技术领域，特别是涉及一种新型镀膜设备。

背景技术

在镀膜玻璃的生产领域中，常用的镀膜方法有浸渍镀膜法、旋转镀膜法、喷溅镀膜法、涂布镀膜法和弯月面镀膜法，浸渍镀膜法的原理为：将玻璃基片浸于溶液中，并均匀提拉出液面，即可在玻璃基片表面形成一层薄膜；旋转镀膜法采用转速可调的高速旋转装置带动玻璃基片在水平面内平稳高速转动，镀膜液从上方滴到玻璃基片上，由转动的离心力将液滴甩成膜；喷溅镀膜法类似喷漆，即用喷头将雾状镀膜液喷到玻璃基片上，利用液体的流平作用形成一层均匀薄膜；涂布镀膜法的基本原理是利用网纹辊将镀膜液带到玻璃基片上；弯月面镀膜法是通过泵使镀膜液从狭缝上部涌出，玻璃基片与镀膜液接触时形成月牙状的液面结构，玻璃基片相对狭缝匀速扫过并在玻璃基片上形成均匀涂膜。

上述几种镀膜工艺中，浸渍镀膜法的镀膜液利用率低，镀膜的厚度因重力作用分布不均匀；旋转镀膜法因径向速率的不均匀性，只能适用于小面积的镀膜需求；喷溅镀膜法在厚度超过1微米时膜厚的均匀性变差；涂布镀膜法只适用于柔性玻璃；弯月面法对设备加工的精度要求非常苛刻。

发明内容

有鉴于此，本实用新型旨在克服上述现有技术中存在的缺陷，提供一种新型镀膜设备。

为达到上述目的，本实用新型的技术方案是这样实现的：

一种新型镀膜设备，包括过滤器、输料管、料斗和传送基片的传送带，所述输料管的一端与料筒连接，另一端开口位于料斗上方，所述传送带位于所述料斗的下方；

所述料斗包括外壳和两片内壳，所述外壳呈倒置的楔形，其内部中空，底部设有条形开口，所述内壳与外壳的内侧壁滑动连接，其底部从外壳开口处探出，两片内壳底部相对的两面相互平行，当两片内壳的底部相接时，料斗的底部完全封闭。

进一步地，所述外壳的上部边沿设有下檐板，所述内壳的上部边沿设有上檐板，所述上檐板和下檐板相互平行且位置相对。

进一步地，所述上檐板和下檐板之间设有升降装置。

进一步地，所述料斗内设有搅拌器。

进一步地，所述搅拌器包括转轴和螺旋叶片，所述螺旋叶片两侧的螺旋方向相反，螺旋方向的转变处位于所述转轴的中部。

进一步地，所述输料管的开口位于所述搅拌器的中部上方。

相对于现有技术，本实用新型的有益效果如下：

(1)该新型镀膜设备，只有少量镀膜液被涂至基片之上，其余的镀膜液都存于料斗中，镀膜液的利用率高，且不会造成镀膜液污染。

(2)该新型镀膜设备，通过内壳间开口的大小以及涂覆液在基片上的扫描速率控制涂覆厚度，涂覆厚度更方便控制。

(3)该新型镀膜设备，可以通过改变料斗的尺寸涂覆不同面积的玻璃基片，适用于大面积尺寸玻璃基片的镀膜。

(4)该新型镀膜设备，通过镀膜液与基片间接触时形成的液面结构，在玻璃基片表面达到镀膜液的均匀涂覆，且玻璃基片水平放置，镀膜液位于玻璃基片上表面，使镀层在重力的作用下进一步扩展铺平，一定程度上缓解了弯月面法在下表面镀膜对设备精度的苛刻要求。