[实用新型]一种酸性含氟废水处理系统有效
| 申请号: | 201920301521.9 | 申请日: | 2019-03-11 |
| 公开(公告)号: | CN210030233U | 公开(公告)日: | 2020-02-07 |
| 发明(设计)人: | 董全宇;陈琳媛;张业栋;吴金;顾雨辰;安秋云 | 申请(专利权)人: | 江苏中电创新环境科技有限公司 |
| 主分类号: | C02F9/04 | 分类号: | C02F9/04;C02F101/14 |
| 代理公司: | 32227 无锡盛阳专利商标事务所(普通合伙) | 代理人: | 顾吉云 |
| 地址: | 214000 江苏省无锡市新区太湖国际科*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 捕捉器 过滤器 调节池 氟离子 钙离子 混凝 含氟废水处理 本实用新型 软化水质 顺序设置 再生周期 树脂 除氟 | ||
本实用新型提供了一种酸性含氟废水处理系统,其能软化水质,延长除氟树脂的再生周期。其包括顺序设置并相连的调节池、第一混凝调节池、第二混凝调节池、过滤器、氟离子捕捉器,其特征在于:在所述过滤器和所述氟离子捕捉器之间还安装有钙离子捕捉器,所述钙离子捕捉器分别与所述过滤器和所述氟离子捕捉器连接。
技术领域
本实用新型涉及废水处理技术领域,具体为一种酸性含氟废水处理系统。
背景技术
氢氟酸具有较强的氧化性和腐蚀性,常常在半导体生产的刻蚀工艺中作为主要溶剂。因此,酸性含氟废水是半导体制造业产生的主要污染废水之一。水体的氟污染不但会严重影响人体健康,还会对生态系统造成破坏。因此,各地区均不同程度地提高了半导体行业废水中关于氟化物的排放标准,以江苏省及上海市为例,《半导体行业污染物排放标准》中规定直接排入特殊保护水域的处理水中氟化物(以F计)需小于8mg/L。寻求一种应对高标准排放要求且高效低廉的含氟废水处理工艺愈发重要。
含氟废水的主要处理方法包括化学沉淀、混凝沉淀、吸附、离子交换、反渗透和电渗析等。采用单一的或是简单组合的工艺,很难使出水F-浓度低于3mg/L,并且容易引入其它污染物质。
申请号为201821574202.7,名称为,一种深度处理含氟废水的污水处理系统的专利,其包括含氟废水收集单元、PH调节单元、反应单元、混凝单元、絮凝单元、沉淀单元、过滤单元、树脂吸附单元,在反应单元添加氯化钙,在混凝单元添加聚合氯化铝、在絮凝单元添加聚丙烯酰胺、通过树脂吸附单元对初步反应出水进行深度吸附处理,进一步除氟。但是,由于添加氯化钙等物质会导致水质硬化,会导致树脂板结,导致除氟树脂再生周期减少。
实用新型内容
针对在通过树脂进行深度除氟的含氟废水处理系统中存在水硬化使得树脂易板结的问题,本实用新型提供了一种酸性含氟废水处理系统,其能软化水质,延长除氟树脂的再生周期。
其技术方案是这样的:一种酸性含氟废水处理系统,其包括顺序设置并相连的调节池、第一混凝调节池、第二混凝调节池、过滤器、氟离子捕捉器,其特征在于:其还包括钙离子捕捉器,所述钙离子捕捉器位于所述过滤器和所述氟离子捕捉器之间,所述钙离子捕捉器分别与所述过滤器和所述氟离子捕捉器连接。
其进一步特征在于:
所述钙离子捕捉器内填充可以捕捉钙离子的弱酸性阳离子交换树脂;
所述调节池设有氢氧化钙、氯化钙加药口,所述调节池底部设有曝气管路;
所述第一混凝调节池设有氢氧化钙、氯化钙加药口;
所述第二混凝调节池设有聚合氯化铝、聚丙烯酰胺和碳酸钠加药口;
所述第一混凝调节池和所述第二混凝调节池内分别安装有搅拌机;
所述第一混凝调节池和所述第二混凝调节池分别与污泥浓缩池连接;
所述钙离子捕捉器和所述氟离子捕捉器之间还连接设有脱碳塔;
所述过滤器和所述氟离子捕捉器与收集池连接,用于将所述过滤器的冲洗废液及所述氟离子捕捉器的再生废液导入至收集池,所述收集池内安装有搅拌机;所述收集池与污泥浓缩池连接;
所述钙离子捕捉器与所述调节池连接,用于将钙离子捕捉器的再生废液输送至所述调节池中。
采用了这样的结构后,通过在氟离子捕捉器前安装钙离子捕捉器,减少水中的钙离子使水软化,能够降低氟离子捕捉器中的树脂板结的风险,延长除氟树脂的再生周期,另外,通过设置碳酸钠加药口用于投加碳酸钠,通过离子交换的方法,减少过量的钙离子,能够进一步软化水质,从而进一步延长树脂的再生周期。
附图说明
图1为本实用新型流程图。
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