[实用新型]一种半导体器件主体清洁装置

说明书

本实用新型公开一种半导体器件主体清洁装置，包括底板、垂直设置于底板上的储液瓶支架和轨道护架，储液瓶支架上设置有储液瓶，轨道护架上开有在竖直方向延伸的竖直槽，轨道护架上还设有清洁装置和风干装置，清洁装置包括海绵支架、海绵粘板和海绵，海绵支架上设有滑动设置于竖直槽内的销轴，海绵通过海绵粘板粘接在海绵支架下端面，海绵支架上端面开有与海绵相通的导水槽，导水槽通过输液管与储液瓶的出口相连通，风干装置包括轴流风机以及将轴流风机连接在轨道护架上的风机支架。本清洁装置用于半导体元器件印字工序前对器件主体进行清洁，增加印字清晰度和印字牢度。

技术领域

本实用新型涉及一种半导体器件主体清洁装置，用于半导体元器件印字工序前对器件主体进行清洁，属于半导体清洁装置技术领域。

背景技术

半导体元器件在测试印字生产过程中机器工作会使器件主体产生不同程度的划痕和灰尘，灰尘会造成器件在印字过程中印不上，因为半导体元器件主体会印有区分正负极或交直流等符号的标识，划痕很容易让使用者难以区分哪个才是正确的印字，故需对元器件主体进行清洁一下增加印字清晰度及印字牢度。

发明内容

本实用新型要解决的技术问题是提供一种半导体器件主体清洁装置，用于半导体元器件印字工序前对器件主体进行清洁，增加印字清晰度和印字牢度。

为了解决所述技术问题，本实用新型采用的技术方案是：一种半导体器件主体清洁装置，包括底板、垂直设置于底板上的储液瓶支架和轨道护架，储液瓶支架上设置有储液瓶，轨道护架上开有在竖直方向延伸的竖直槽，轨道护架一侧设有清洁装置，另一侧设有风干装置，清洁装置包括海绵支架、海绵粘板和海绵，海绵支架上设有滑动设置于竖直槽内的销轴，海绵通过海绵粘板粘接在海绵支架下端面，海绵支架上端面开有与海绵相通的导水槽，导水槽通过输液管与储液瓶的出口相连通，风干装置包括轴流风机以及将轴流风机连接在轨道护架上的风机支架，储液瓶的高度大于清洁装置的高度，风干装置的高度大于清洁装置的高度。

进一步的，所述导水槽为T形导水槽，T形导水槽的窄端开有与输液管相连的圆孔。

进一步的，储液瓶的出口设有控制瓶内液体流出速度的滴定装置。

进一步的，销轴采用螺杆，销轴未与海绵支架连接的一端上旋有紧固螺钉。

进一步的，所述清洁装置用于轴向封装二极管和桥堆整流器件。

本实用新型的有益效果：本实用新型包括储液瓶、清洁装置和风干装置，储液瓶内的清洁液体流道清洁装置的海绵上，海绵将器件本体的灰尘、脏污、油污擦拭掉，利用风干装置的轴流风机将擦拭过的器件吹干，从而使干燥无污的半导体器件流入印字工序，可增加印字清晰度和印字牢度，避免了人工清洗擦除影响工作效率，提高工作效率和器件印字质量。

附图说明

图1为本实用新型的结构示意图；

图2为清洁装置的俯视结构示意图；

图3为清洁装置的仰视结构示意图；

图中：1、底板，2、储液瓶支架，3、储液瓶，4、滴定装置，5、输液管，6、轨道护架，7、竖直槽，8、风机支架，9、轴流风机，10、销轴，11、海绵支架，12、海绵，13、圆孔，14、导水槽，15、海绵粘板。

具体实施方式

下面结合附图和具体实施例对本发明作进一步的说明。

实施例1