[实用新型]一种用于铜工艺铸造的抛光打磨设备

权利要求书

1.一种用于铜工艺铸造的抛光打磨设备，包括工作平台（5），其特征在于，所述工作平台（5）的下表面四角处均固定设置有支撑柱（1）；所述工作平台（5）的下表面中部固定设置有储水箱（3），储水箱（3）一侧下部设置有水泵（2）；所述储水箱（3）的一侧上部贯穿设置有铜屑收集机构（28）；所述工作平台（5）上表面后侧对称设置有固定板（8）；两块所述固定板（8）的上端连接设置于支撑板（10）；所述支撑板（10）上表面设置有第一伺服电机（11），第一伺服电机（11）的主轴贯穿支撑板（10）连接有调节螺杆（12）；所述调节螺杆（12）外侧套设有滑块（13），滑块（13）前侧面固定设置有横梁（18）；所述横梁（18）远离滑块（13）一侧连接设置有工作臂（14），工作臂（14）一侧下部设置有抛光机构（29）；所述抛光机构（29）外侧设置有喷水环（24），喷水环（24）与水泵（2）的出水口管连接；所述工作平台（5）的上表面中部固定设置有横断面呈C型的防护板（19）；所述防护板（19）一端通过铰链（6）连接有旋转门板（7）；所述旋转门板（7）远离防护板（19）一侧和防护板（19）另一端分别设置有相匹配的搭扣（15）；所述工作平台（5）的上表面设置有安装板（16），安装板（16）位于防护板（19）内侧；所述安装板（16）一侧的工作平台（5）上开设有与铜屑收集机构（28）相对应的漏液孔（20）。

2.根据权利要求1所述的用于铜工艺铸造的抛光打磨设备，其特征在于，所述铜屑收集机构（28）包括抽拉盒（4）、隔离块（22）过滤板（21）；所述抽拉盒（4）内腔底部均匀开设有安装槽，安装槽内安装有相匹配的隔离块（22）；所述相邻隔离块（22）间的抽拉盒（4）底部开设有漏水孔（23）；所述隔离块（22）上表面设置有过滤板（21），过滤板（21）的外侧面与抽拉盒（4）内侧壁贴合。

3.根据权利要求1所述的用于铜工艺铸造的抛光打磨设备，其特征在于，所述抛光机构（29）包括第二伺服电机（26）、抛光盘（27）和防护罩（25）；所述第二伺服电机（26）固定设置于工作臂（14）前侧面下部，第二伺服电机（26）的主轴外侧套设有抛光盘（27）；所述第二伺服电机（26）的机壳外侧套设有防护罩（25），防护罩（25）下端边缘处固定设置有喷水环（24）。

4.根据权利要求1所述的用于铜工艺铸造的抛光打磨设备， 其特征在于，所述防护板（19）与旋转门板（7）贴合处设置有设置有橡胶密封层（17）。

5.根据权利要求1所述的用于铜工艺铸造的抛光打磨设备， 其特征在于，两块所述固定板（8）相对侧面均对称固定设置有凸台（9）；所述滑块（13）左右两侧均开有与凸台（9）相匹配的滑槽（30）。