[实用新型]一种自流碰撞搅拌通道有效

专利信息
申请号: 201920259944.9 申请日: 2019-03-01
公开(公告)号: CN209791316U 公开(公告)日: 2019-12-17
发明(设计)人: 郑恩阳 申请(专利权)人: 上海德宝密封件有限公司
主分类号: B01F5/06 分类号: B01F5/06
代理公司: 31001 上海申汇专利代理有限公司 代理人: 翁若莹
地址: 201900 *** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 化学药剂 通道本体 本实用新型 投放口 撞击块 自流 搅拌设备 节能环保 污水混合 均匀度 接通
【说明书】:

本实用新型公开了一种自流碰撞搅拌通道,其特征在于,包括通道本体,通道本体内设有多个撞击块,通道本体的一侧与化学药剂投放口接通,化学药剂投放口设于撞击块的上方。本实用新型的一种自流碰撞搅拌通道,能有效提高化学药剂与污水混合的均匀度,免去搅拌设备,符合节能环保的理念。

技术领域

本实用新型涉及一种自流碰撞搅拌通道,属于水利水电工程技术领域。

背景技术

处理污水时,化学沉淀法是比较常用的处理方法,化学药剂与污水混合的均匀度,影响化学药剂的投放量,均匀度越高化学药剂的投放量越少。所以需要搅拌设备进行搅拌,设备的增加,意味着污水处理成本的增加,以及延伸的其它方面的污染排放。

发明内容

本实用新型要解决的技术问题是:解决了如何在不另外增加搅拌设备的情况下使得化学药剂与污水混合均匀的问题。

为了解决上述技术问题,本实用新型的技术方案是提供了一种自流碰撞搅拌通道,其特征在于,包括通道本体,通道本体内设有多个撞击块,通道本体的一侧与化学药剂投放口接通,化学药剂投放口设于撞击块的上方。

优选地,所述的多个撞击块之间相互错开且均匀分布于通道本体内。

优选地,所述的相邻两个并排的撞击块之间设有间隙,间隙的后方设有另一撞击块。

优选地,每个所述的撞击块的一侧均设有便于水流通过的斜坡。

优选地,所述的通道本体为水流通道。

本实用新型的一种自流碰撞搅拌通道,能有效提高化学药剂与污水混合的均匀度,免去搅拌设备,符合节能环保的理念。

与现有技术相比,本实用新型的有益效果:

本实用新型的占用面积小,节省空间,且由于免去了搅拌设备,节约了设备采购成本和设备后期的维护成本。

附图说明

图1为一种自流碰撞搅拌通道的使用示意图;

图2为一种自流碰撞搅拌通道的侧视图。

具体实施方式

为使本实用新型更明显易懂,兹以优选实施例,并配合附图作详细说明如下。

本实用新型为一种自流碰撞搅拌通道,如图1、图2所示,其包括通道1和撞击块2,通道本体1为水流通道。通道本体1内设有多个撞击块2,通道本体1的一侧与化学药剂投放口3接通,化学药剂投放口3设于撞击块2的上方。多个撞击块2之间相互错开且均匀分布于通道本体1内。相邻两个并排的撞击块2之间设有间隙,间隙的后方设有另一撞击块2。每个撞击块2的一侧均设有便于水流通过的斜坡,图中箭头方向为污水的流动方向。通道本体1的下方设有污水沉淀池4。

如图1所示,当污水与化学药剂流过通道本体1时,撞击通道本体1内的撞击块2,可增加两者(即污水与化学药剂)的混合均匀度,当均匀混合后进入污水沉淀池4内进行沉淀。通过检测流入污水沉淀池4污水的均匀度,选择通道本体1的合理长度及撞击块2的密度。

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