[实用新型]一种曝光用激光换能吸收结构有效
| 申请号： | 201920258185.4 | 申请日： | 2019-02-28 |
| 公开（公告）号： | CN209343133U | 公开（公告）日： | 2019-09-03 |
| 发明（设计）人： | 蔡志国;张米好;余加辉 | 申请（专利权）人： | 深圳凯世光研股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 深圳市合道英联专利事务所(普通合伙) 44309 | 代理人： | 廉红果;侯峰 |
| 地址： | 518000 广东省深圳市宝*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 曝光组件 吸收组件 电路板 转运平台 电磁波 基板 反射 本实用新型 吸收结构 反光 换能 曝光 激光 反射波长 曝光工艺 曝光过程 吸收波长 相对设置 吸光层 紫外线 | ||
【权利要求书】：
1.一种曝光用激光换能吸收结构，其特征在于：包括转运平台、曝光组件和至少一组吸收组件，所述曝光组件设置在所述转运平台上方，所述吸收组件相对设置在所述曝光组件的底部，所述吸收组件包括基板和敷设在所述的基板底部吸光层，所述基板与所述曝光组件连接。
2.根据权利要求1所述的一种曝光用激光换能吸收结构，其特征在于：所述吸光层包括荧光粉层和敷设在荧光粉层上的粘合剂，所述荧光粉层通过混合的粘合剂敷设在所述基板底部。
3.根据权利要求2所述的一种曝光用激光换能吸收结构，其特征在于：所述吸光层还包括隔离层，所述隔离层设置在所述荧光粉层的外侧。
4.根据权利要求1、2或3所述的一种曝光用激光换能吸收结构，其特征在于：所述吸收组件设置有多组，多组所述吸收组件之间设置有收纳曝光组件的空位。
5.根据权利要求4所述的一种曝光用激光换能吸收结构，其特征在于：所述曝光组件的照射方向垂直于所述的转运平台。
6.根据权利要求5所述的一种曝光用激光换能吸收结构，其特征在于：还包括支架，所述基板通过所述支架与所述曝光组件固定连接。
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