[实用新型]一种推送机构及化学气相沉积机台有效
| 申请号: | 201920231516.5 | 申请日: | 2019-02-21 |
| 公开(公告)号: | CN209923426U | 公开(公告)日: | 2020-01-10 |
| 发明(设计)人: | 贾中宇;杨杰;王昕昀;胡广严;吴龙江;吴孝哲;林宗贤 | 申请(专利权)人: | 德淮半导体有限公司 |
| 主分类号: | C23C16/44 | 分类号: | C23C16/44 |
| 代理公司: | 31295 上海思捷知识产权代理有限公司 | 代理人: | 王宏婧 |
| 地址: | 223300 江苏*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 加热体 感应电流 推送机构 导体 化学气相沉积 机台 本实用新型 处理装置 目标位置 同步运动 磁感线 磁场 切割 初始位置运动 运动距离确定 磁场发生器 导体连接 驱动装置 运动距离 配置 驱动 | ||
1.一种推送机构,用于化学气相沉积机台,所述化学气相沉积机台包括一用以承载衬底的加热体,所述推送机构用以推动所述加热体运动,所述加热体具有初始位置和目标位置,其特征在于,包括:
磁场发生器,用以产生磁场;
驱动装置,与所述加热体连接,用以驱动所述加热体运动;
导体,用以与所述加热体同步运动;以及,
处理装置,与所述导体连接并形成回路;
其中,所述导体被配置为,所述加热体从所述初始位置运动至所述目标位置的过程中,用以切割所述磁场的磁感线而产生感应电流;
所述处理装置被配置为,用以接收所述感应电流,并根据所述感应电流得到所述加热体的运动距离,以根据所述加热体的运动距离确定所述加热体当前的位置。
2.根据权利要求1所述的一种推送机构,其特征在于,所述处理装置与所述驱动装置连接;
所述处理装置还被配置为,当所述加热体当前的位置与所述目标位置相同时,控制所述驱动装置停止驱动所述加热体运动。
3.根据权利要求2所述的一种推送机构,其特征在于,所述推送机构还包括放大电路,所述放大电路包括输入端和输出端,所述放大电路的所述输入端与所述导体连接,所述输出端与所述处理装置连接。
4.根据权利要求3所述的一种推送机构,其特征在于,所述放大电路包括第一放大电路和第二放大电路;所述加热体从所述初始位置朝所述目标位置移动的方向为第一方向,所述加热体从所述目标位置向所述初始位置移动的方向为第二方向;
其中,所述第一放大电路用以放大所述加热体沿第一方向运动时所述导体所产生的感应电流;所述第二放大电路用以放大所述加热体沿第二方向运动时所述导体所产生的感应电流。
5.根据权利要求1-4中任一项所述的一种推送机构,其特征在于,所述推送机构还包括警报器,所述警报器与所述处理装置连接;
所述处理装置还被配置为,当所述加热体运动至所述目标位置时,判断所述加热体当前的位置是否在预设范围内,若否,则所述警报器发出报警;和/或,
所述处理装置还被配置为,判断所述加热体是否在预设时间内到达所述目标位置,若否,则所述警报器发出报警。
6.根据权利要求1-4中任一项所述的一种推送机构,其特征在于,所述气相沉积机台还包括一反应腔室,所述加热体设置于所述反应腔室内;所述磁场发生器包括磁体和屏蔽层;所述磁体用于产生所述磁场,所述屏蔽层用于将所述反应腔室隔离在所述磁场外。
7.根据权利要求1-4中任一项所述的一种推送机构,其特征在于,所述驱动装置包括伺服电机、丝杠、套筒、联轴器和支撑件;所述丝杠通过所述联轴器与所述伺服电机的输出轴连接;所述套筒套设于所述丝杠上并与所述丝杠螺纹配合,同时所述套筒通过所述支撑件与所述加热体连接;
其中,所述导体设置在所述套筒或所述支撑件上。
8.根据权利要求1-4中任一项所述的一种推送机构,其特征在于,所述导体为电感线圈。
9.根据权利要求8所述的一种推送机构,其特征在于,所述电感线圈为矩形线圈。
10.一种化学气相沉积机台,其特征在于,包括:
反应腔室;
加热体,设置于所述反应腔室内;以及,
如权利要求1-9任一项所述的推送机构,设置于所述反应腔室的外部,并用于推送所述加热体往复运动。
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C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的





