[实用新型]一种螺旋式光阻涂布结构及其制备装置

权利要求书

1.一种螺旋式光阻涂布结构，包括晶圆，其特征在于，所述晶圆表面覆盖设置有处理溶剂层，所述处理溶剂层上方设置有光阻层，所述光阻层呈螺旋形，螺旋形光阻层包括若干首尾相连的单元段，相邻的外层单元段尾端与内层单元段首端相连，外侧的相邻两个单元段之间的间距大于内侧的相邻两个单元段之间的间距。

2.根据权利要求1所述的一种螺旋式光阻涂布结构，其特征在于，每个所述单元段的首端与尾端位于晶圆的同一直径上。

3.根据权利要求1或2所述的一种螺旋式光阻涂布结构，其特征在于，内侧的所述单元段尾端位于晶圆的中心位置，晶圆直径为195~205mm。

4.根据权利要求1-3任一项所述的一种螺旋式光阻涂布结构的制备装置，其特征在于，包括机身，机身上侧可转动地设置有圆形旋转台，机身内部设置有旋转驱动机构，所述旋转台上设置有若干真空吸盘，所述旋转台上方设置有移动涂胶机构，所述移动涂胶机构包括固定顶架，固定顶架上设置有至少2条导轨，其中1条导轨侧面轴向设置有齿条，导轨下侧活动连接有移动座，移动座上对应旋转台设置有喷胶手臂，喷胶手臂的喷出口轴线与旋转台表面垂直，移动座上对应齿条一体设置有电机座，电机座上安装有电机一，电机一的输出轴向上穿过电机座并传动连接有齿轮，齿轮与所述齿条相啮合。

5.根据权利要求4所述的一种螺旋式光阻涂布结构的制备装置，其特征在于，所述旋转驱动机构包括电机二，电机二竖直设置，电机二的输出端经减速器与旋转台的转轴传动连接。