[实用新型]一种管道清理装置及单晶硅生产设备

说明书

本实用新型提供了一种管道清理装置及单晶硅生产设备，所述管道清理装置包括：第一旋转模块，所述第一旋转模块设置于管道对接处，第一旋转模块包括设置于管道内部的嵌入部和外露于管道外部的旋转部件，嵌入部与旋转部件连接，旋转部件用于带动嵌入部旋转；第二旋转模块，第二旋转模块沿管道的轴向设置，第二旋转模块与管道的内壁贴合，第二旋转模块的一端连接在第一旋转模块的嵌入部上，在嵌入部的带动下，第二旋转模块在管道内旋转以清理管道的内壁。本实用新型通过设置在管道对接处的第一旋转模块来带动设置在管道内壁上的第二旋转模块旋转，从而可以将附着在管道内壁上的沉积物刮掉，进而实现了对管道的清理。

技术领域

本实用新型涉及管道清理技术领域，特别是涉及一种管道清理装置及单晶硅生产设备。

背景技术

直拉法生成单晶硅是以多晶硅为原料，先使多晶硅在石英坩埚里熔化成液态，随后使其定向结晶，最后变成硅的单晶体，也就是单晶硅。在硅原料融化由固态变为液态开始，硅原料与石英坩埚之间反应，石英坩埚与石墨埚帮之间发生反应，产生大量的挥发性杂质气体，挥发性杂质气体随着保护气体的流动通过单晶炉炉体的排气孔进入管道，在管道内大量挥发性气体遇冷附着在管道内，少量部分由机械真空泵抽出单晶炉系统外。随着连续拉晶工艺的应用，单晶炉单次运行时间变长，投料量的增加使得挥发性气体产生的量也增加，流经管道后附着在管道内壁的挥发物的量增加，容易造成管道堵塞，造成单晶炉排气不畅，长晶困难，晶体品质下降。

现有的清理管道的方法必须等到停炉后，通过人工将管道拆卸下来，用带有长杆的铁刷子刷洗，这种清理方法不仅操作复杂，浪费人力，而且清理效率较低。

实用新型内容

鉴于上述问题，提出了本实用新型以便提供一种克服上述问题或者至少部分地解决上述问题的一种管道清理装置以及一种单晶硅生产设备。

为了解决上述问题，一方面，本实用新型公开了一种管道清理装置，应用于管道，所述管道包括至少两根子管道，相邻的两根所述子管道之间形成管道对接处，所述管道清理装置包括：

第一旋转模块，所述第一旋转模块设置于所述管道对接处，所述第一旋转模块包括：设置于所述管道内部的嵌入部、以及外露于所述管道外部的旋转部件，所述嵌入部与所述旋转部件连接，所述旋转部件用于带动所述嵌入部旋转；

第二旋转模块，所述第二旋转模块沿所述管道的轴向设置，所述第二旋转模块与所述管道的内壁贴合，所述第二旋转模块的一端连接在所述第一旋转模块的所述嵌入部上，在所述嵌入部的带动下，所述第二旋转模块在所述管道内旋转以清理所述管道的内壁。

可选地，所述嵌入部包括嵌入部本体以及卡接部；其中

所述嵌入部本体分别与相邻的所述子管道的内壁贴合；

所述卡接部凸出于所述嵌入部本体，所述卡接部分别与相邻的所述子管道卡接连接。

可选地，还包括：密封圈，所述密封圈沿所述管道的轴向分布，所述密封圈设置在所述嵌入部与所述管道之间。

可选地，所述密封圈包括：至少一个第一密封圈和至少一个第二密封圈，其中

所述第一密封圈设置于所述嵌入部本体和所述子管道的内壁之间；

所述第二密封圈设置于所述卡接部与所述子管道之间。

可选地，所述嵌入部本体上设置有用于卡入所述第一密封圈的第一密封槽，所述卡接部上设置有用于卡入所述第二密封圈的第二密封槽。

可选地，两根所述子管道的相邻端部分别设置凸台，所述旋转部件设置于相邻的两个所述子管道的凸台之间，相邻的两个所述凸台通过紧固件连接。

可选地，所述第二旋转模块的一端焊接在所述嵌入部本体上；

或者，所述第二旋转模块的一端通过紧固件固定在所述嵌入部本体上。