[实用新型]充氮式真空烤箱

权利要求书

1.一种充氮式真空烤箱，其特征在于，包括箱体、充氮装置、发热板和抽气装置，所述箱体内放置炉内层架，所述炉内层架设置有多层，每个层架上均设置有所述发热板；容置腔的侧壁上开有通孔，包括位于容置腔侧壁侧端的充氮孔和位于容置腔侧壁下端的吸气孔；所述充氮装置位于所述箱体内，通过所述充氮孔与所述容置腔相通；所述抽气装置设置在箱体的下端，通过导管与吸气孔相连，抽气装置、充氮装置和发热板相互配合，实现对放置在炉内层架上的产品进行真空加热。

2.根据权利要求1所述的充氮式真空烤箱，其特征在于，所述箱体上设置有炉门、检修门和放气阀，所述炉门位于所述箱体的正面，活动连接在所述箱体上，所述炉门的周围还环绕设置有密封圈；所述检修门设置在所述箱体的侧面，通过螺钉固定在所述箱体上；所述放气阀设置在检修门的上端，用于将容置腔内的气体释放到空气中。

3.根据权利要求1所述的充氮式真空烤箱，其特征在于，所述箱体上还设置有控制装置和移动装置，控制装置设置在所述箱体的最上端位置，包括显示面板和控制按键，所述控制按键设置在所述显示面板旁，对整个真空烤箱的动作进行控制；所述移动装置设置在所述箱体的最下端位置，所述移动装置由多个脚轮和固定脚组成，实现对箱体的移动和放置。

4.根据权利要求1所述的充氮式真空烤箱，其特征在于，所述发热板固定设置在所述炉内层架上，每层炉内层架的下端均设置有所述发热板，所述发热板采用螺钉固定在所述炉内层架上。

5.根据权利要求1所述的充氮式真空烤箱，其特征在于，所述抽气装置设置在所述箱体的下端位置，通过导管与所述吸气孔相连，所述吸气孔旁还设置有气压传感器，所述气压传感器与控制装置相连，当炉体气压达到设定值时，控制装置控制抽气装置不再进行工作，从而保证炉体气压处于设定值状态。

6.根据权利要求1所述的充氮式真空烤箱，其特征在于，所述充氮装置设置在容置腔的侧面，充氮装置与控制装置电性相连，充氮装置气体出口与所述充氮孔相连，所述充氮孔旁还设有氮气浓度感应器，所述氮气浓度感应器与控制装置电性相连。