[实用新型]硅胶片的表面改质装置

权利要求书

1.一种硅胶片的表面改质装置，用于针对复数硅胶片进行改质作业，其特征在于，包含：

至少一腔体；

至少一改质结构，为长条状且具有一长轴而设于该腔体内，用于发射紫外线；及

至少一输送带，设于该腔体内并位于该改质结构的一侧，用于承载呈间隔排列的该些硅胶片，其中，该输送带的运转移动方向平行该改质结构的该长轴，由此透过该输送带运转使该些硅胶片依序接收紫外线照射，进而提升该些硅胶片的表面改质良率。

2.如权利要求1所述的硅胶片的表面改质装置，其特征在于，该腔体内设有复数个该改质结构时，该些改质结构为平行排列，该输送带为延续的S型结构而具有至少一回转部，且该回转部位于任二相邻的该改质结构之间，以使该些硅胶片经过任一该改质结构后转向移往另一该改质结构继续来接收紫外线。

3.如权利要求1所述的硅胶片的表面改质装置，其特征在于，该腔体内设有复数个该改质结构及复数个该输送带时，该些改质结构及该些输送带分别为平行排列设置且相互对应，该腔体外侧或内侧设有至少一回转装置，且该回转装置的一端与任一该输送带的一输出端对应设置，该回转装置的另一端则与下一个该输送带的一送入端对应设置，以使该些硅胶片经过任一该改质结构后转向移往另一该改质结构续以接收紫外线。

4.如权利要求3所述的硅胶片的表面改质装置，其特征在于，该回转装置为倾斜状履带结构，且该回转装置高度较低的端与任一该输送带的该输出端对应设置，以承接由该输送带落下的该些硅胶片，该回转装置高度较高的端与另一该输送带的该送入端对应设置，以使该输送带承接该些硅胶片，其中该回转装置的最大高度大于该输送带的设置高度，该回转装置的最小高度小于该输送带的设置高度。

5.如权利要求1所述的硅胶片的表面改质装置，其特征在于，该腔体内设有复数个该改质结构及复数个该输送带时，该些改质结构及该些输送带分别为平行排列设置且相互对应，该腔体外侧设有至少一移动翻转装置，该移动翻转装置对应该些输送带位置设置，以接收任一该输送带上的该些硅胶片，并将该些硅胶片翻面再送往下一该输送带。

6.如权利要求5所述的硅胶片的表面改质装置，其特征在于，该移动翻转装置为一柱状结构体并具有一开槽，以承接任一该输送带上的该些硅胶片，并于该些硅胶片位于该开槽后，上下翻转该移动翻转装置，再移动该移动翻转装置至下一该输送带位置，以将翻面后的该些硅胶片送至下一该输送带。

7.如权利要求1所述的硅胶片的表面改质装置，其特征在于，该腔体为复数设置时，各该腔体内设有一个该改质结构及一个该输送带，且该些腔体为平行排列设置，相邻的各该腔体间设有一回转装置，该回转装置与相邻的该些输送带相对应，以使经过任一该腔体后的该些硅胶片转向传送至另一该腔体续以接收紫外线。

8.如权利要求7所述的硅胶片的表面改质装置，其特征在于，该回转装置为倾斜状履带结构，且该回转装置高度较低的端与任一该输送带的一输出端对应设置，以承接由该输送带落下的该些硅胶片，该回转装置高度较高的端与另一该输送带的一送入端对应设置，以使该输送带承接该些硅胶片，其中该回转装置的最大高度大于该输送带的设置高度，该回转装置的最小高度小于该输送带的设置高度。

9.如权利要求1所述的硅胶片的表面改质装置，其特征在于，该腔体为复数设置时，各该腔体内设有一个该改质结构及一个该输送带，且该些腔体为平行排列设置，该腔体外侧设有至少一移动翻转装置，该移动翻转装置对应该输送带设置，以接收任一该输送带上的该些硅胶片，并将该些硅胶片翻面再送往下一该输送带。

10.如权利要求9所述的硅胶片的表面改质装置，其特征在于，该移动翻转装置为一柱状结构体并具有一开槽，以承接任一该输送带上的该些硅胶片，并于该些硅胶片位于该开槽后，上下翻转该移动翻转装置，再移动该移动翻转装置至下一该输送带位置，以将翻面后的该些硅胶片送至下一该输送带。