[实用新型]一种本地二次荧光辐射装置

说明书

本实用新型公开了一种本地二次荧光辐射装置，包括电子发射器和靶材；所述靶材为叠层靶材；所述电子发射器用于发射电子束打击靶材；所述电子发射器发射的电子束的电子量可调。本实用新型通过设置叠层靶材使得X射线能够直接本地激发二次荧光，叠层靶材配合电子发射器发射不同的电子能量，从而获得不同的能谱，能够简洁有效的进行能谱的调节。

技术领域

本实用新型涉及X射线应用领域，尤其涉及一种本地二次荧光辐射装置。

背景技术

X射线产生是用电子击打靶材获得，由于在不同的应用上，被测物体的厚度以及密度均不相同，导致对于X射线穿透力需求不同，从而使对X射线的光亮以及能量要求也不同，目前，现有的X射线光管由于光管自身的造价降低和体积大幅减小，在不同的应用上，选择替换光源成为一种可行方案，但是替换光源的方案会导致成本增高，而且在一些环境复杂的应用场合中并不方便进行光源替换，同时复杂的图像处理的操作以及复杂的图像处理的相关应用均不宜实行。

实用新型内容

本实用新型的目的是提供一种可简洁有效的进行能谱的调节的本地二次荧光辐射装置。

实现本实用新型目的的技术方案是：一种本地二次荧光辐射装置，包括电子发射器和靶材；所述靶材为叠层靶材；所述电子发射器用于发射电子束打击靶材；所述电子发射器发射的电子束的电子量可调。

所述靶材包括层叠设置的钼金属层、锌金属层、铁金属层和钛金属层。

所述靶材的钼金属层的厚度＞钛金属层的厚度＞锌金属层的厚度＞铁金属层的厚度。

所述电子发射器发射的电子束的电子量通过改变电子发射器输入能量来进行调节。

采用了上述技术方案，本实用新型具有以下的有益效果：(1)本实用新型通过设置叠层靶材使得X射线能够直接本地激发二次荧光，叠层靶材配合电子发射器发射不同的电子能量，从而获得不同的能谱，能够简洁有效的进行能谱的调节。

(2)本实用新型的电子发射器发射的电子束的电子量通过改变电子发射器输入能量来进行调节，调节方便。

附图说明

为了使本实用新型的内容更容易被清楚地理解，下面根据具体实施例并结合附图，对本实用新型作进一步详细的说明，其中

图1为本实用新型的靶材的结构示意图。

图2为电子发射器输入的能量为30kV时，靶材的能量转换示意图。

图3为电子发射器输入的能量为17keV时，靶材的能量转换示意图。

附图中的标号为：

靶材1、钼金属层2、锌金属层3、铁金属层4、钛金属层5。

具体实施方式

(实施例1)

见图1，本实施例的本地二次荧光辐射装置，包括电子发射器和靶材1。靶材1为叠层靶材。电子发射器用于发射电子束打击靶材1。电子发射器发射的电子束的电子量可调。

靶材1包括层叠设置的钼金属层2、锌金属层3、铁金属层4和钛金属层5。

靶材1的钼金属层2的厚度＞钛金属层5的厚度＞锌金属层3的厚度＞铁金属层4的厚度。

电子发射器发射的电子束的电子量通过改变电子发射器输入能量来进行调节。