[实用新型]一种数控机床用轨道辅助清洁装置

权利要求书

1.一种数控机床用轨道辅助清洁装置，包括机床导轨(1)，所述机床导轨(1)的上表面装配有机床移动机架，其特征在于：所述机床导轨(1)的侧表面紧密贴合有侧壁清洁装置(3)，所述机床导轨(1)的上表面紧密贴合有上壁清洁装置(4)，所述侧壁清洁装置(3)和上壁清洁装置(4)的外表面固定安装有外壳(2)，所述外壳(2)的后表面固定安装在机床移动机架的前表面，所述上壁清洁装置(4)包括第二固定板(41)，所述第二固定板(41)的右表面套接有第二传动辊(42)和第二清洁辊(43)，所述第二清洁辊(43)的外壁表面紧密贴合有第二刮板(46)，所述第二传动辊(42)和第二清洁辊(43)的分别固定安装有两个第二齿轮(45)，两个第二齿轮(45)的内侧表面相啮合，所述第二齿轮(45)的外表面套接有第二套壳(44)，所述第二固定板(41)的上表面固定安装在壳体(21)的内壁表面。

2.根据权利要求1所述的一种数控机床用轨道辅助清洁装置，其特征在于：所述外壳(2)包括壳体(21)，所述壳体(21)的前表面开设有开口(22)，所述壳体(21)的侧表面开设有滑槽(24)，所述壳体(21)的左表面开设有套槽(23)，所述壳体(21)的后表面固定安装有连接板(25)。

3.根据权利要求2所述的一种数控机床用轨道辅助清洁装置，其特征在于：所述侧壁清洁装置(3)包括第一固定板(31)，所述第一固定板(31)的下表面分别套接有第一清洁辊(32)和第一传动辊(33)，所述第一清洁辊(32)和第一传动辊(33)的下表面分别固定安装有两个第一齿轮(35)，两个所述第一齿轮(35)的外表面套接有第一套壳(34)，所述第一清洁辊(32)的外壁表面紧密贴合有第一刮板(38)。

4.根据权利要求3所述的一种数控机床用轨道辅助清洁装置，其特征在于：所述套槽(23)的内表面套接有第二收集槽(47)，所述滑槽(24)的内表面套接有滑轨(37)，所述滑轨(37)的下表面固定安装有第一收集槽(36)，所述第一收集槽(36)的上表面位于第一套壳(34)的正下方，所述第二收集槽(47)的上表面位于第二刮板(46)的左端正下方，所述第二收集槽(47)的左表面固定安装有拉手(48)。

5.根据权利要求4所述的一种数控机床用轨道辅助清洁装置，其特征在于：所述第一清洁辊(32)和第二清洁辊(43)均位于第一传动辊(33)和第二传动辊(42)的前方。

6.根据权利要求5所述的一种数控机床用轨道辅助清洁装置，其特征在于：所述连接板(25)的外壁表面均匀开设有圆孔，且连接板(25)的后表面固定安装在机床移动机架的前表面。