[实用新型]一种溅射气体均匀喷洒的磁控溅射靶源有效
| 申请号： | 201920116372.9 | 申请日： | 2019-01-23 |
| 公开（公告）号： | CN209537614U | 公开（公告）日： | 2019-10-25 |
| 发明（设计）人： | 邵玮;汤俊杰 | 申请（专利权）人： | 南通纳瑞纳米科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 226300 江*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 储气 狭缝 溅射气体 磁控溅射 磁控溅射靶源 均匀喷洒 喷气小孔 靶材 连通 本实用新型 气体压强 左右两侧 内表面 圆周型 气压 升高 存储 保证 | ||
1.一种溅射气体均匀喷洒的磁控溅射靶源，包括靶材(1)、喷气小孔(10)和狭缝(11)，其特征在于：所述靶材(1)的上方设置有磁控溅射区域(2)，且磁控溅射区域(2)的左右两侧均安装有外壳(3)，所述外壳(3)的内部设置有五级储气环(4)，且五级储气环(4)的下端连接有四级储气环(5)，所述四级储气环(5)的下端安装有三级储气环(6)，且三级储气环(6)的下端连接有二级储气环(7)，所述二级储气环(7)的下端安装有一级储气环(8)，且一级储气环(8)的下方连接有进气总管(9)，所述喷气小孔(10)设置于磁控溅射区域(2)的内表面，所述狭缝(11)连接于三级储气环(6)和二级储气环(7)的中间位置。
2.根据权利要求1所述的一种溅射气体均匀喷洒的磁控溅射靶源，其特征在于：所述外壳(3)与靶材(1)之间形成半包围结构，且磁控溅射区域(2)的竖直中心线与靶材(1)的竖直中心线相互重合。
3.根据权利要求1所述的一种溅射气体均匀喷洒的磁控溅射靶源，其特征在于：所述四级储气环(5)、三级储气环(6)、二级储气环(7)与一级储气环(8)的结构相同，且四级储气环(5)、三级储气环(6)、二级储气环(7)与一级储气环(8)的结构均为圆环形结构。
4.根据权利要求1所述的一种溅射气体均匀喷洒的磁控溅射靶源，其特征在于：所述二级储气环(7)通过狭缝(11)与一级储气环(8)之间构成连通结构，且二级储气环(7)与一级储气环(8)关于狭缝(11)上下对称。
5.根据权利要求1所述的一种溅射气体均匀喷洒的磁控溅射靶源，其特征在于：所述一级储气环(8)与进气总管(9)之间构成连通结构，且一级储气环(8)与进气总管(9)之间的连接方式为焊接连接。
6.根据权利要求1所述的一种溅射气体均匀喷洒的磁控溅射靶源，其特征在于：所述喷气小孔(10)均匀等距分布于磁控溅射区域(2)的内部，且喷气小孔(10)的结构为圆形结构。
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