[实用新型]一种晶振头随转膜厚自动监控系统

说明书

本实用新型公开了一种晶振头随转膜厚自动监控系统，涉及膜厚自动监控系统技术领域，包括真空室，所述真空室的一侧设置有PLC控制器，且真空室的一侧位于PLC控制器的旁边位置处设置有触摸屏，所述真空室的上方位于中心位置处设置有导电滑环。本实用新型设计新颖，结构简单，使用方便，具有较高的稳定性，通过PLC控制器控制驱动组件带动晶振探头转动，从而对基片的膜厚进行检测，检测信号由输出导线传输给晶振膜厚仪进行运算得出膜厚数值，同时将数值传递给PLC控制器的显示端，解决了传统无线输出控制方法的不稳定性因素，使得基片膜厚检测工作更加稳定，提高了工作效率，且无需人员干预，增加了实用性。

技术领域

本实用新型涉及膜厚自动监控系统技术领域，具体是一种晶振头随转膜厚自动监控系统。

背景技术

一种由物理方法产生薄膜材料的技术，在真空室内被镀材料通过蒸发、磁控溅射等方式蒸镀在被镀物体的表面上，此项技术最先用于生产光学镜片，如航海望远镜镜片等，后延伸到其他功能薄膜，唱片镀铝、装饰镀膜和材料表面改性等，镀膜后的基片需要通过膜厚仪进行测量，以确保其整体品质。

但是目前的膜厚检测都是由人工按批次通过膜厚仪进行抽检，或晶振头在固定位置不动即时测量，不仅工作量大，效率低，还不能确保整体的检测精度。因此，本领域技术人员提供了一种晶振头随转膜厚自动监控系统，以解决上述背景技术中提出的问题。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种晶振头随转膜厚自动监控系统，以解决上述背景技术中提出的问题。

为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：一种晶振头随转膜厚自动监控系统，包括真空室，所述真空室的一侧设置有PLC控制器，且真空室的一侧位于PLC控制器的旁边位置处设置有触摸屏，所述真空室的上方位于中心位置处设置有导电滑环，且真空室的底部安装有驱动组件A，所述真空室的内部底端转动连接有固定齿轮盘，且真空室的内部底端位于固定齿轮盘的外圈位置处转动连接有与其相啮合的做行星转动的从动小齿轮，所述固定齿轮盘的上方设置有可转动公转盘，且固定齿轮盘上方相对应从动小齿轮的位置处转动连接有与其相固定的自转挂具，所述导电滑环的内部设置有垂直向下延伸至真空室内部的晶振线引入轴，且导电滑环的上部安装有晶振膜厚仪，所述晶振线引入轴的一侧通过连杆连接有晶振探头，且晶振线引入轴的下部通过三节万向接头与真空室底部的旋转驱动组件A相连接。

作为本实用新型再进一步的方案：所述驱动组件A包括第一伺服电机、第一电机架以及主动轴，主动轴连接第一伺服电机传动端，且主动轴的另一端贯穿真空室和固定齿轮盘与晶振线引入轴固定连接。

作为本实用新型再进一步的方案：所述晶振探头位于自转挂具之间间隙中，且径向尺寸可调。

作为本实用新型再进一步的方案：所述公转盘呈圆盘形结构，且公转盘与晶振线引入轴之间通过固定连接。

作为本实用新型再进一步的方案：所述晶振线引入轴为空心结构，所述晶振探头与晶振膜厚仪之间通过输出导线相连。

与现有技术相比，本实用新型的有益效果是：本实用新型设计新颖，结构简单，使用方便，具有较高的稳定性，通过PLC控制器控制驱动组件带动晶振探头转动，从而对晶片的膜厚进行检测，检测信号由输出导线传输给晶振膜厚仪进行运算得出膜厚数值，同时将数值传递给PLC控制器的显示端，解决了传统无线输出控制方法的不稳定性因素，使得晶片膜厚检测工作的稳定性，提高了工作效率，且无需人员干预，增加了使用性，通过晶振探头和基片公转架同步旋转，可以确保从而保证测厚的同步性和一致性。

附图说明

图1为一种晶振头随转膜厚自动监控系统实施例1（基片公自转形式）的结构示意图；

图2为一种晶振头随转膜厚自动监控系统实施例2（基片公转形式）的结构示意图；

图3为一种晶振头随转膜厚自动监控系统实施例3的结构示意图。