[实用新型]一种精密双面研磨机横梁调平装置有效

专利信息
申请号: 201920110825.7 申请日: 2019-01-23
公开(公告)号: CN209533077U 公开(公告)日: 2019-10-25
发明(设计)人: 朱亮;曹建伟;卢嘉彬;邹晶刚;严浩;周锋;刘文涛;傅林坚 申请(专利权)人: 浙江晶盛机电股份有限公司
主分类号: B24B41/02 分类号: B24B41/02;B24B37/08
代理公司: 杭州中成专利事务所有限公司 33212 代理人: 周世骏
地址: 312300 浙江*** 国省代码: 浙江;33
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摘要:
搜索关键词: 上横梁 活动端 本实用新型 双面研磨机 调平装置 水平度 横梁 精密 双面研磨抛光 连接固定架 长度差异 长度调节 单晶硅片 固定螺钉 焊接变形 旋转立柱 螺钉 固定架 剪切力 内圈 上盘 变形 疲劳 保证
【说明书】:

实用新型涉及单晶硅片双面研磨抛光技术领域,特别涉及一种精密双面研磨机横梁调平装置。包括上横梁;上横梁一端与旋转立柱的活动端外圈相连,另一端与下方的固定架相连;活动端外圈内设有活动端内圈。上横梁端部设有螺钉与调节栓,用于调节上横梁的水平并用于连接固定架。本实用新型通过四个调节栓分别修配,长度差异,调节上横梁可能由于焊接变形、疲劳变形等因素而导致的上横梁水平度不好的现象。可以将由于整个上盘自重产生的重力,对固定螺钉产生的剪切力,转移到调节栓上,通过对调节栓的长度调节,保证上横梁的水平度,结构简单,实用性强。

技术领域

本实用新型涉及单晶硅片双面研磨抛光技术领域,特别涉及一种精密双面研磨机横梁调平装置。

背景技术

单晶硅是制造半导体硅器件的原料,用于制大功率整流器、大功率晶体管、二极管、开关器件等。用于二极管级、整流器件级、电路级以及太阳能电池级单晶产品的生产和深加工制造,其后续产品集成电路和半导体分离器件已广泛应用于各个领域,在军事电子设备中也占有重要地位。

作为单晶硅片的加工技术中的一项双面研磨技术,是成品单晶硅片量产的必不可少的加工工艺,精密双面研磨机起到了关键的作用。市面上较为普遍的双面研磨机主要有固定横梁式与旋转横梁式两种,由于其维护方便的优势,旋转横梁式双面研磨机广受工厂青睐,但对于这种旋转横梁式精密双面研磨机,如何保证长时间使用、维护过后,悬臂横梁仍内保持原有的水平度和精度,却成为了一个技术难题,因此设计一种既能方便换盘维护,又能保证其原有的水平度和精度成为了一个亟待解决的问题。

实用新型内容

本实用新型要解决的技术问题是,克服现有技术中的不足,提供一种精密双面研磨机横梁调平装置。

为解决上述技术问题,本实用新型采用的解决方案是:

提供一种精密双面研磨机横梁调平装置,包括上横梁;上横梁一端与旋转立柱的活动端外圈相连,另一端与下方的固定架相连;活动端外圈内设有活动端内圈。

上横梁端部设有螺钉与调节栓,用于调节上横梁的水平并用于连接固定架。

作为一种改进,活动端外圈与活动端内圈间设有轴承。

作为一种改进,上横梁与活动端外圈通过螺钉相连。

作为一种改进,调节栓有四个。

与现有技术相比,本实用新型的技术效果是:

1、通过四个调节栓分别修配,长度差异,调节上横梁可能由于焊接变形、疲劳变形等因素而导致的上横梁水平度不好的现象。

2、可以将由于整个上盘自重产生的重力,对固定螺钉产生的剪切力,转移到调节栓上,通过对调节栓的长度调节,保证上横梁的水平度,结构简单,实用性强。

附图说明

图1为实用新型的总体结构示意图;

图2为调节栓调平结构示意图;

图3为旋转端结构示意图。

图中:1-上横梁;2-轴承;3-活动端外圈;4-活动端内圈;5-第一螺钉;6-调节栓;7-固定架;8-第二螺钉。

具体实施方式

下面结合附图,对本实用新型的具体实施方式进行详细描述。

如图1-2所示,一种精密双面研磨机横梁调平装置,包括上横梁1;上横梁1水平设置,一端通过螺钉与旋转立柱的活动端外圈3相连,另一端与固定架7相连;活动端外圈3内设有活动端内圈4。上横梁1端部设有第一螺钉5与四个调节栓6,固定加7顶部设有第二螺钉8,一同用于调节上横梁1的水平并连接固定架7。活动端外圈3与活动端内圈4间设有轴承。

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