[实用新型]一种加热装置及用于制备长线材超导体的综合热处理系统

说明书

本实用新型公开了一种加热装置及用于制备长线材超导体的综合热处理系统。该加热装置包括加热装置本体，所述加热装置本体包括若干个光源，每个所述光源对应一个反射面，每个所述光源设于对应的所述反射面的第一焦点处，所有所述反射面的第二焦点重合，所有所述反射面的反光面朝向所述第二焦点，所有所述第一焦点均匀分布于一个圆周上。运用本实用新型所述的一种加热装置，根据椭圆的性质，即椭圆内一个焦点发出的光线经过所述反射面反射后，反射光线必过另一个焦点的性质，利用若干个均匀设置的所述光源和的对应的所述反射面将光线汇聚到所述第二焦点处，使位于或者通过所述第二焦点处的物体均匀受热，该加热装置结构简单，使用方便，效果良好。

技术领域

本实用新型涉及加热技术领域，特别涉及一种加热装置及用于制备长线材超导体的综合热处理系统。

背景技术

现有公认的制备高性能超导长线材的最好方法之一是RHQ(快热快冷)热处理法，需要在极短的时间内将超导前驱线材(超导前驱线材不具有超导性能)采用欧姆加热连续快速(约0.1秒)加热至2000℃左右后，因此需要较大的电流，再快速冷却至30-50℃，但是，由于超导前驱线材加工精度难以保证匀质及线材波动致使线材被加热段电阻波动不均匀，导致线材在RHQ热处理过程中容易断线。

实用新型内容

本实用新型的目的在于克服现有技术中所存在的采用较大电流欧姆加热连续快速加热超导前驱线材时，由于超导前驱线材加工精度难以保证匀质及线材波动致使线材被加热段电阻波动不均匀，导致线材在RHQ热处理过程中容易断线的上述不足，提供一种加热装置及用于制备长线材超导体的综合热处理系统。

为了实现上述实用新型目的，本实用新型提供了以下技术方案：

一种加热装置，包括加热装置本体，所述加热装置本体包括若干个光源，每个所述光源对应一个横截面为椭圆形的反射面，每个所述光源设于对应的所述反射面的椭圆第一焦点处，所有所述反射面的椭圆第二焦点重合，所有所述反射面朝向所述第二焦点，所有所述第一焦点共圆。

现有RHQ装置在制备超导线材时，由于线材成分不均一导致其电阻不均一，而要想使线材温度达到1910-2060℃，线材的单位体积能量密度需达到50J/mm³，在通入恒直流电的情况下，根据焦耳定律Q＝I²Rt，电阻的变化量ΔR会被放大I²倍，然而，直流电的电流往往比较大，线材直径越大，所需的直流电就越大，造成欧姆加热时线材局部温度过高而断线，因此，在通入较小的电流I_RHQ可显著降低线材长度方向上的单位体积能量密度波动，进而大幅降低断线率。

采用本实用新型所述的一种加热装置，根据椭圆的性质，即椭圆内一个焦点发出的光线经过所述反射面反射后，反射光线必过另一个焦点的性质，利用若干个均匀设置的所述光源和的对应的所述反射面将光线汇聚到所述第二焦点处，使位于或者通过所述第二焦点处的物体均匀受热，运用在超导线材的RHQ热处理时，由于通入较小的电流I_RHQ降低线材长度方向上的单位体积能量密度波动能够降低断线率，随之线材的单位体积能量密度达不到50J/mm³，因而采用该加热装置辅助加热使线材的单位体积能量密度达到50J/mm³，又不会带来波动，满足RHQ热处理工艺需求，该加热装置结构简单，使用方便，效果良好。

优选地，所述光源为线光源。

采用这种结构设置，线光源长度方向平行于所述反射面长度方向，能够在线光源长度方向距离内对位于或通过所述第二焦点处的物体均匀受热，即增长了加热段，能够使物体充分加热。

优选地，所有所述反射面对称设置在所述加热装置本体内，并且围成一个中空管状结构。

优选地，所述光源为卤素灯。

优选地，每个所述反射面的反光面镀有反射膜。