[实用新型]一种溶剂生产设备有效
| 申请号: | 201920073282.6 | 申请日: | 2019-01-16 |
| 公开(公告)号: | CN209388109U | 公开(公告)日: | 2019-09-13 |
| 发明(设计)人: | 顾大公;马新龙;马潇;毛智彪;许从应 | 申请(专利权)人: | 宁波南大光电材料有限公司 |
| 主分类号: | G03F7/004 | 分类号: | G03F7/004 |
| 代理公司: | 深圳盛德大业知识产权代理事务所(普通合伙) 44333 | 代理人: | 贾振勇 |
| 地址: | 315800 浙江省宁波市北仑区*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 溶剂 生产设备 氮气 本实用新型 取料 压料 循环过滤组件 制备技术领域 颗粒度控制 氮气环境 取用系统 时间保持 循环过滤 制备系统 光刻胶 颗粒度 密封 过滤 | ||
本实用新型适用于光刻胶制备技术领域,提供了一种溶剂生产设备。该溶剂生产设备包括含循环过滤组件的制备系统以及利用氮气压料方式取料的取用系统。本实用新型中的溶剂生产设备,通过循环过滤方式来有效过滤掉溶剂中的颗粒度,并通过氮气压料方式来进行取料,整个过程在密封或氮气环境下运行,颗粒度控制较好,可长时间保持溶剂的纯度以及可避免溶剂在使用前被环境污染。
技术领域
本实用新型属于光刻胶制备技术领域,尤其涉及一种溶剂生产设备。
背景技术
在半导体工业中,光刻胶是芯片及器件制造的关键材料。一般来说,光刻胶包含主体树脂、光敏剂、添加剂和溶剂等。其中主体树脂、光敏剂和添加剂在光刻胶中含量较小,光刻胶的主要成分还是溶剂。
现有技术当中,随着国家电子材料产业的发展,国产高纯电子级试剂产品不断面世。从指标上看,国内电子级试剂的金属杂质和水分含量基本能达到先进光刻胶的使用要求。但在颗粒度控制方面,还存在薄弱环节,且如何长时间保持高纯溶剂的纯度以及如何避免溶剂在使用前被环境污染,成为一个在光刻胶生产中迫切需要解决的问题。
实用新型内容
本实用新型实施例提供一种溶剂生产设备,旨在解决现有技术当中溶剂颗粒度控制较差的技术问题。
本实用新型实施例是这样实现的,一种溶剂生产设备,包括:
制备系统,包括原料储存罐、溶剂储存罐、循环过滤器及输送泵,所述溶剂储存罐上设有进液口、出气口及吸液管,所述吸液管的下端深入至所述溶剂储存罐底部,所述循环过滤器和所述输送泵通过管路串连成一循环过滤组件,所述循环过滤组件的进入口通过带第一开关阀门的通气管与氮气气源连接,其排出口连接所述进液口,所述原料储存罐通过带进料阀门的进气管路与所述循环过滤组件的进入口连接,所述出气口通过出气管路与所述氮气气源连接,所述吸液管上端通过循环管路与所述循环过滤组件的进入口连接;以及
取用系统,包括取用过滤器及取用瓶,所述取用过滤器的进液口通过带取液阀门的取液管路与所述吸液管连接,所述取用过滤器的出液口通过出液管路与所述取用瓶连接,所述出液管路通过带第二开关阀门的进气管路与所述氮气气源连接。
更进一步地,所述进液口和所述出气口及所述吸液管上均设有密封阀门。
更进一步地,所述通气管上还设有第三开关阀门,所述第三开关阀门靠近所述循环过滤组件的进入口。
更进一步地,所述循环管路与所述通气管连接,并通过所述第三开关阀门与所述循环过滤组件的进入口连接。
更进一步地,所述出气管路与所述通气管连接,并通过所述第一开关阀门连接所述氮气气源。
更进一步地,所述取用过滤器的出液口通过一出液阀门与所述出液管路连接,所述取液管路通过所述循环管路与所述吸液管连接。
更进一步地,所述进气管路与所述通气管连接,并通过所述第一开关阀门连接所述氮气气源。
更进一步地,所述出液管路为一带阀门的软性伸缩管。
本实用新型所达到的有益效果:通过将溶剂原料输送至溶剂储存罐当中,随后启用循环过滤组件对溶剂储存罐当中的溶剂进行循环过滤,能够有效过滤掉溶剂中的颗粒度,待溶剂储存罐当中的溶剂的颗粒度测试合格后,停止循环过滤并关闭所有阀门,避免溶剂被环境沾污,取料时,采用氮气压料的方式进行取料,且取料过程当中再一次经过取用过滤器过滤,同时若溶剂储存罐当中的溶剂长时间未内使用或未使用完,可再次利用循环过滤组件进行过滤,从而长时间保持溶剂的纯度,因此本溶剂生产设备对溶剂颗粒度的控制较好,能够不间断的提供高纯光刻胶用溶剂,满足生产需求。
附图说明
图1是本实用新型实施例一当中的溶剂生产设备的结构图;
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