[实用新型]一种化学反应过程控制仿真实训装置有效
| 申请号: | 201920013956.3 | 申请日: | 2019-01-04 | 
| 公开(公告)号: | CN209379037U | 公开(公告)日: | 2019-09-13 | 
| 发明(设计)人: | 赵欣;刘群;陈波;矫桂鹅;鲁家浩;孙涵;周艳华;周萍 | 申请(专利权)人: | 赵欣 | 
| 主分类号: | B01L9/02 | 分类号: | B01L9/02 | 
| 代理公司: | 北京久维律师事务所 11582 | 代理人: | 邢江峰 | 
| 地址: | 200000*** | 国省代码: | 上海;31 | 
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 化学反应过程 控制柜底座 综合控制器 仿真实训装置 综合显示屏 控制系统 上侧端面 控制器 化学反应 本实用新型 传统方式 可控制性 控制效果 操作柜 工作台 构建 底座 灵活 教学 | ||
1.一种化学反应过程控制仿真实训装置,包括控制柜底座(1)、操作柜底座(2)和单拼台工作台(3),其特征在于:所述控制柜底座(1)的上侧端面安装有综合显示屏控制器(4),所述控制柜底座(1)的上侧端面接近综合显示屏控制器(4)的一侧安装有DCS控制器(5),所述DCS控制器(5)的一侧安装有PLC综合控制器(6),所述PLC综合控制器(6)的一侧设置有排热扇孔(7),所述控制柜底座(1)通过线缆走线槽(8)与操作柜底座(2)的一侧相连,所述单拼台工作台(3)的上侧端面设置有试剂瓶放置工作台(9),所述试剂瓶放置工作台(9)的上侧端面放置有仿真用试剂瓶(10),所述单拼台工作台(3)通过相互拼接组成仿真立体框架组(11),所述仿真立体框架组(11)的一侧安装有滞后水箱温度框架(12),所述滞后水箱温度框架(12)的一侧安装有锅炉温度框架(13),所述锅炉温度框架(13)的一次安装有缓冲罐压力框架(14),所述单拼台工作台(3)的安装有单向滑动导轮(15),所述单拼台工作台(3)的一侧安装有平台卡件(16),所述单拼台工作台(3)的一侧安装有试剂瓶衔接板(17),所述单拼台工作台(3)活动安装在操作柜底座(2)的上端面工作台(18)上。
2.根据权利要求1所述的一种化学反应过程控制仿真实训装置,其特征在于:所述滞后水箱温度框架(12)与锅炉温度框架(13)和缓冲罐压力框架(14)均由PLC综合控制器(6)和DCS控制器(5)通过线缆走线槽(8)内部的信号线控制。
3.根据权利要求1所述的一种化学反应过程控制仿真实训装置,其特征在于:所述试剂瓶放置工作台(9)下端连接的地脚均固定连接有吸盘。
4.根据权利要求1所述的一种化学反应过程控制仿真实训装置,其特征在于:所述试剂瓶衔接板(17)设置有四组且固定安装在单拼台工作台(3)的一侧,所述单拼台工作台(3)为L型。
5.根据权利要求1所述的一种化学反应过程控制仿真实训装置,其特征在于:所述上端面工作台(18)的上侧外表面固定安装有导轨与单拼台工作台(3)底部的单向滑动导轮(15)相配合。
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