[实用新型]一种能自动浇水的气液平衡栽培槽有效
申请号: | 201920010869.2 | 申请日: | 2019-01-04 |
公开(公告)号: | CN209403238U | 公开(公告)日: | 2019-09-20 |
发明(设计)人: | 梁芳;侯倩;陈小文;刘彩霞;张天柱 | 申请(专利权)人: | 北京中农富通园艺有限公司 |
主分类号: | A01G31/02 | 分类号: | A01G31/02 |
代理公司: | 北京孚睿湾知识产权代理事务所(普通合伙) 11474 | 代理人: | 韩燕 |
地址: | 101100 北京市*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 栽培槽 气液平衡 自动浇水 基质网 直立 支板 本实用新型 营养液层 基质层 基质 中间偏上位置 长方体形 堵口装置 整体形状 第一端 空气层 平衡 | ||
本实用新型提供一种能自动浇水的气液平衡栽培槽,其包括一个或多个栽培槽本体,栽培槽本体整体形状为长方体形,栽培槽本体的端部设置有能分离的堵口装置,栽培槽本体内部中间偏上位置设置有基质网,基质网的下部设置有直立支板,直立支板的第一端连接基质网的中心位置,直立支板的第二端连接栽培槽本体底部的中心位置。基质网上部形成基质层,栽培槽本体底部形成营养液层,营养液层与基质层之间形成空气层。本实用新型提供一种能自动浇水的气液平衡栽培槽,其结构简单,使用方便,能够平衡栽培槽基质内的空气含量和水分含量。
技术领域
本实用新型属于农业设施技术领域,具体地涉及一种能自动浇水的气液平衡栽培槽。
背景技术
无土栽培(包括水培、基质培)箱的种类很多,箱体大小深度各有不同,在实验室、观光园、生产中应用较多,然而能够将基质培和水培两者结合的却很少。为了克服基质培透气性差、水培对水温条件要求高等缺陷,创造作物生长的良好根部环境,达到作物高产、优质的效果,同时可降低成本,能够在实际中灵活而大量应用,且增加无土箱式栽培的类型,有必要发明一种基于地表面,能够直接摆放,简单组合就可以进行叶菜和果菜种植的设施。
相对于传统的水培,基质可将植物自身新陈代谢的有害物质化解缓冲,养分、水分、空气、温度等环境变化缓和。与水培相比,基质培性能稳定、设备简单、投资较少、管理较易等优点,但是现有的栽培槽无法进行气液平衡,容易对植物的生长造成影响。
实用新型内容
具体地,本实用新型提供一种能自动浇水的气液平衡栽培槽,其结构简单,使用方便,能够平衡栽培槽基质内的空气含量和水分含量。
具体地,本实用新型提供一种能自动浇水的气液平衡栽培槽,其包括一个或多个栽培槽本体以及浇灌装置,所述栽培槽本体整体形状为长方体形,所述栽培槽本体的端部设置有能分离的堵口装置,所述栽培槽本体包括底板以及两个侧壁,所述栽培槽本体的底部的一侧的侧壁设置有进水口,所述栽培槽本体的底部另一侧的侧壁与进水口对应的位置设置有出水口,所述进水口与所述出水口之间形成水流通道,
所述栽培槽本体内部中间偏上位置设置有基质网,所述基质网的下部设置有直立支板,所述直立支板的第一端连接所述基质网的中心位置,所述直立支板的第二端连接所述栽培槽本体底部的中心位置,
所述基质网上部形成基质层,所述栽培槽本体底部形成营养液层,所述营养液层与所述基质层之间形成空气层,
所述栽培槽本体内壁上设置有第一水位监测点以及第二水位监测点,所述第一水位监测点的高度大于第二水位监测点的高度,所述第一水位监测点与所述第二水位监测点处分别设置有水位传感器以监测水位,
当栽培槽本体内的水位低于所述第二水位监测点时,所述浇灌装置通过所述进水口11向所述所述栽培槽本体内部浇水,当栽培槽本体内的水位不低于所述第二水位监测点时,所述浇灌装置停止浇水。
优选地,所述栽培槽本体的两侧分别设置有向外延伸的边部。
优选地,所述直立支板的高度为150mm。
优选地,所述栽培槽本体在所述基质网设置位置处的侧壁上开设有多个通气孔。
优选地,所述栽培槽本体底部设置有出水口。
优选地,所述浇灌装置包括水箱、控制单元、水泵以及浇灌单元,所述水泵设置在所述水箱内部,所述浇灌单元的第一端连接所述水泵,所述浇灌单元的第二端经过所述进水口11通入所述栽培槽本体内部,所述水位传感器的输出端连接所述控制单元的输入端,所述控制单元的输出端连接所述水泵的输入端。
优选地,所述控制单元为单片机。
优选地,所述浇灌单元为水管,所述水管端部设置有喷淋头,所述水管内部设置有过滤网。
与现有技术相比,本实用新型具有以下有益效果:
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