[实用新型]一种釉回收机构

说明书

本实用新型属于釉的回收技术领域，具体涉及一种釉回收机构。一种釉回收机构，适用于流水线输送形式的釉喷淋系统上，该喷淋系统包括传送机构，传送机构上方固定有淋釉机构，传送机构包括平行且同步运行的左传送装置和右传送装置，工件放置在左传送装置和右传送装置上进行输送，所述的釉回收机构包括支撑架，左传送装置的左侧或者右侧设置有与其运动方向相垂直的左接釉槽，右传送装置左侧或者是右侧设置有与其运动方向相垂直的右接釉槽，左接釉槽和右接釉槽分别位于左传送装置、右传送装置的相同侧。

技术领域

本实用新型属于釉的回收技术领域，具体涉及一种釉回收机构。

背景技术

陶瓷制品坯件的上釉是陶瓷产品生产工艺中一道必要的工序，陶瓷产品的质量不仅取决于从原料选择和成型加工、以及成型坯件的烧制工艺技术等一系列工艺技术，还取决于陶瓷成型坯件的炮制前或后的上釉工艺技术。现有的用于对陶瓷制品进行上釉的工艺过程中大量水状的釉会一直进行喷釉作业，而陶瓷制品在传送机构上的并不是排列无间隙的，所以在陶瓷制品之间的间隙的传送机构会裸露，釉会喷洒到传送机构上并附着在传送机构上，传送机构上的釉附着在陶瓷坯件的底部，影响陶瓷坯件的烧制，另外，水状的釉随着传送机构的运动，洒溅到四周，污染环境。

发明内容

本实用新型的目的在于针对现有技术中存在的问题提供一种釉回收机构，该机构解决了现有技术中的问题，在生产过程中不仅可以对釉进行回收，而且可以避免釉喷洒到传送机构上进而影响陶瓷坯件的质量。

本实用新型的技术方案是：

一种釉回收机构，适用于流水线输送形式的釉喷淋系统上，该喷淋系统包括传送机构，传送机构上方固定有淋釉机构，传送机构包括平行且同步运行的左传送装置和右传送装置，工件放置在左传送装置和右传送装置上进行输送，所述的釉回收机构包括支撑架，所述的左传送装置的左侧或者右侧设置有与其运动方向相垂直的左接釉槽，所述的右传送装置左侧或者是右侧设置有与其运动方向相垂直的右接釉槽，所述的左接釉槽和右接釉槽分别位于左传送装置、右传送装置的相同侧。

所述的左接釉槽呈倾斜设置且上端稍低于左传送装置的上表面，下端固定在左接釉槽固定板上，左接釉槽固定板通过固定座固定在左固定轴一端上，所述的左固定轴另一端通过左支撑座固定在固定架上。

所述右接釉槽呈倾斜设置且上端稍低于右传送装置的上表面，下端固定在右接釉槽固定板，右接釉槽固定板通过固定座固定在右固定轴一端上，所述的右固定轴另一端通过右支撑座固定在固定架上。

所述的固定架的相同侧上至少与两个曲柄传动板的同一端固定连接，所述的至少两个曲柄传动板的另一端与固定板固定连接，所述的固定板一端与气缸的气缸活塞固定连接。

所述的左接釉槽和右接釉槽的下方设置有釉回收输送槽，所述的釉回收输送槽固定在支撑架上。

具体的，所述的固定架下方固定设置有支撑板，所述的固定架与支撑板上下对应设置，所述的支撑板固定在支撑架上。

具体的，所述的左接釉槽和右接釉槽的倾斜角度一致，且同时朝向釉回收输送槽方向倾斜向下设置。

具体的，所述的右接釉槽的下端位于左接釉槽上端的正下方。

本实用新型的有益效果是：由气缸伸缩推动曲柄上下运动，达到将接釉槽上下运动的目的，在输送机构上没有待喷釉陶瓷坯件时，接釉槽可将喷淋机构喷下的釉接到并收到釉回收输送槽内进行汇集再利用。本实用新型不仅实现了釉的回收重复利用，同时还避免了传送机构上的釉对陶瓷坯件背面以及环境的污染。本实用新型结构简单，操作方便，只要控制气缸延时开启就可以实现自动控制，经济适用。

附图说明

图1是本实用新型的结构示意图；

图2是接釉槽上升状态的结构示意图；

图3是本实用新型侧视结构示意图。