[发明专利]修复剂及其应用

说明书

本发明涉及一种修复剂，所述修复剂包括第一溶剂以及分散于所述第一溶剂中的成膜剂，所述成膜剂的分子链中包括硅羟基，所述修复剂用于形成修复层，辐射制冷膜的热反射率为m₁、热吸收率为n₁，包括所述修复层的辐射制冷膜的热反射率为m₂、热吸收率为n₂，m₂‑m₁的差值为x，x≥‑5％、n₂‑n₁的差值为y，y≤3％。该修复剂与辐射制冷膜的受损处通过形成化学键，而与辐射制冷膜之间具有良好的附着力，且不影响辐射制冷膜的制冷效果。

技术领域

本发明涉及辐射制冷技术领域，尤其涉及一种修复剂及其应用。

背景技术

辐射制冷是指通过红外辐射方式从大气窗口将热量直接释放到外太空的制冷方式。辐射制冷的特征就是制冷体的表面温度恒低于气温，然后通过传导将辐射制冷体温度降低到气温以下，从而达到辐射制冷的目的。

目前已经市场化的辐射制冷产品主要为辐射制冷薄膜，可以根据使用需求将辐射制冷膜粘贴在待降温物体的外表面。辐射制冷膜较薄，在使用过程中容易破损，辐射制冷膜破损后一方面会影响辐射制冷膜的辐射制冷效率，另一方面，辐射制冷膜内的反射镀层与空气中的水氧接触后，容易被氧化或腐蚀，从而影响其反射功能的发挥，并缩短辐射制冷膜的使用寿命。现有的修复剂通常通过涂料中的固化剂、引发剂或催化剂以诱发高分子交联，其成膜过程较为复杂，且涂料成本较高，不便于实际使用。

发明内容

鉴于此，有必要针对上述技术问题提供一种修复剂及其应用，其成膜过程简单，成膜性能好，且该修复层对辐射制冷膜的制冷效率影响较小。

根据本发明的一个方面，提供一种修复剂，所述修复剂包括第一溶剂以及分散于所述第一溶剂中的成膜剂，所述成膜剂的分子链中包括硅羟基，所述修复剂用于在辐射制冷膜的表面形成第一修复层，所述辐射制冷膜的热反射率为m₁、热吸收率为n₁，包括所述第一修复层的辐射制冷膜的热反射率为m₂、热吸收率为n₂，m₂-m₁的差值为x₁，x₁≥-5％、n₂-n₁的差值为y₁，y₁≤3％。

在其中一个实施例中，所述成膜剂包括甲基苯基硅树脂、甲基硅树脂、二羟基聚二甲基硅氧烷中的至少一种；

及/或，所述第一溶剂包括丙二醇甲醚醋酸酯、乙酸乙酯、丙二醇中的至少一种。

在其中一个实施例中，所述修复剂中，所述成膜剂与所述第一溶剂的质量比为(800～1000):(100～400)，所述修复剂的粘度为100cst～2000cst。

在其中一个实施例中，所述修复剂还包括消泡剂，所述消泡剂与所述成膜剂的质量比为(1～5):(800～1000)；

及/或，所述修复剂还包括流平剂，所述流平剂与所述成膜剂的质量比为(1～5):(800～1000)。

在其中一个实施例中，所述修复剂中还包括金属浆料，所述金属浆料包括第二溶剂以及分散于所述第二溶剂中的金属颗粒，所述修复剂用于在辐射制冷膜的表面形成第二修复层，所述第二修复层对300nm～2500nm波段的太阳辐射具有80％以上的反射率，包括所述第二修复层的辐射制冷膜的热反射率为m₃、热吸收率为n₃，m₃-m₁的差值为x₁，x₁≥-1％、n3-n1的差值为y₁，y₁≤1％。

在其中一个实施例中，所述修复剂中，所述金属浆料与所述成膜剂的质量比为(100～300):(800～1000)。