[发明专利]一种增强拉曼效应的悬空衬底及其制备方法在审
| 申请号： | 201911413151.9 | 申请日： | 2019-12-31 |
| 公开（公告）号： | CN111157509A | 公开（公告）日： | 2020-05-15 |
| 发明（设计）人： | 武山;冷庆;汪靖萱;张朋 | 申请（专利权）人： | 阜阳师范大学 |
| 主分类号： | G01N21/65 | 分类号： | G01N21/65;B81C1/00 |
| 代理公司： | 合肥中博知信知识产权代理有限公司 34142 | 代理人： | 张加宽 |
| 地址： | 236000 安徽*** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 增强 效应 悬空 衬底 及其 制备 方法 | ||
1.一种增强拉曼效应的悬空衬底，其特征在于，包括纳米级厚度的悬空基片和沉积在所述悬空基片一侧的纳米级厚度的金属层，所述金属层上设置有周期性排列的通孔。
2.根据权利要求1所述的增强拉曼效应的悬空衬底，其特征在于，所述悬空基片为氮化硅基片或氧化硅基片；
所述金属层为贵金属层。
3.根据权利要求2所述的增强拉曼效应的悬空衬底，其特征在于，所述贵金属层中的贵金属为银和/或金。
4.根据权利要求3所述的增强拉曼效应的悬空衬底，其特征在于，所述悬空基片的厚度为5～30nm；所述贵金属层的厚度为30～100nm。
5.根据权利要求1所述的增强拉曼效应的悬空衬底，其特征在于，所述通孔为圆形通孔。
6.根据权利要求5所述的增强拉曼效应的悬空衬底，其特征在于，所述圆形通孔的半径为50～100nm。
7.一种根据权利要求1～6中任意一项所述的增强拉曼效应的悬空衬底的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：
(1)选择悬空基片；
(2)通过离子溅射法在悬空基片的一侧沉积金属层；
(3)采用聚焦离子束技术在金属层的一侧上加工出周期性排列的通孔。
8.根据权利要求6所述的制备方法，其特征在于，在步骤(2)中，所述贵金属层的厚度为30～100nm。
9.根据权利要求6所述的制备方法，其特征在于，在步骤(3)中，所述聚焦离子束技术是以镓离子作为离子源，利用电透镜将镓离子束聚焦成非常小的离子束对样品表面进行轰击。
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