[发明专利]一种晶圆清洗装置及清洗方法

权利要求书

1.一种晶圆清洗装置，包括清洗腔、清洗部、喷淋单元和清洁单元；

所述清洗腔用于接收需要清洗的晶圆；

所述清洗部可转动地安装于所述清洗腔内，用于擦洗晶圆表面；

所述喷淋单元设置于所述清洗部上方，并在所述清洗部擦洗晶圆的过程中向晶圆表面喷洒清洗液；

所述清洁单元设置于所述清洗腔中，并在晶圆清洗结束后通过喷射清洁液对所述清洗部进行清洁；

所述清洁单元包括超声清洁台，所述超声清洁台由底座和喷射器组成，所述底座为水平板状结构，所述喷射器将清洁液持续喷射到底座上，所述底座中嵌设有超声换能器，用于对底座上的清洁液进行超声处理；当清洗部完成晶圆清洗后，清洗部移至所述底座上并与底座上表面接触且部分浸入清洁液中，喷射器持续朝清洗部方向喷射清洁液，经超声处理的清洁液对清洗部进行清洁。

2.如权利要求1所述的晶圆清洗装置，其特征在于，所述清洁单元包括喷头组件，当清洗部完成晶圆清洗后，所述喷头组件将经过加压的清洁液喷射在清洗部表面。

3.如权利要求2所述的晶圆清洗装置，其特征在于，所述喷头组件采用兆声喷头或空化射流喷头，当清洗部完成晶圆清洗后，所述喷头组件将经过兆声或空化处理的清洁液喷射在清洗部表面。

4.如权利要求2或3所述的晶圆清洗装置，其特征在于，所述清洗部为圆柱形的清洗刷或清洗海绵，所述清洁液为去离子水，所述喷头组件中沿着所述清洗部的轴向设置有多个喷头。

5.如权利要求1所述的晶圆清洗装置，其特征在于，所述清洁液为溶解有一定含量气体的高压液体。

6.如权利要求5所述的晶圆清洗装置，其特征在于，所述清洗部为圆柱形的清洗刷或清洗海绵，所述喷射器的出口为沿着所述清洗部的轴向设置的一条狭缝。

7.如权利要求5所述的晶圆清洗装置，其特征在于，所述清洗部为圆柱形的清洗刷或清洗海绵，所述喷射器的出口为沿着所述清洗部的轴向设置的多个喷嘴。

8.如权利要求7所述的晶圆清洗装置，其特征在于，所述喷嘴为空化射流喷嘴。

9.一种晶圆清洗方法，其特征在于，采用如权利要求1-8中任一项所述的晶圆清洗装置对晶圆进行清洗，包括：

将需要去除表面污染物的晶圆放入清洗腔中；

用喷淋单元将清洗液喷洒到晶圆表面并用清洗部擦洗晶圆表面；

喷淋单元停止喷洒清洗液；

将晶圆移出清洗腔并将清洗部移近清洁单元；

清洁单元喷射清洁液，对清洗部进行清洁。