[发明专利]一种高透光耐候性复合膜及其制备方法

说明书

本发明公开了一种高透光耐候性复合膜及其制备方法，从下至上依次包括基膜、胶粘层及外层膜；其中，胶粘层由胶水液涂覆于基膜上制得，该胶水液包括如下甲基苯基硅树脂、聚硅氧烷、二氧化钛及二甲苯；制备时在130‑150℃条件下将胶水液涂覆于基膜表面，随后与外层膜贴合，即制得该复合膜。本发明复合膜的阻水率高达3×10^‑3‑10^‑4g/m²·day，对紫外200‑365nm具有90％以上的截止能力，透光率达到88‑90％，具有优异的耐老化耐候性及抗污性；同时，其制备方法简单，能够连续化生产，具有柔性特征，可应用于显示、半导体器件及太阳能电池等领域。

技术领域

本发明属于保护膜领域，尤其涉及一种高透光耐候性复合膜及其制备方法。

背景技术

随着社会发展，智能化、柔性化产品越来越受到人们的青睐，同时柔性薄膜产品在高精尖领域发挥出不可替代的作用，例如折叠太阳能伞、柔性显示器、可穿戴电子皮肤等等。为了保护易氧化易功率衰减的敏感半导体部件，对上层柔性保护膜提出了越来越高的要求:不仅对阻水阻气效果要求高，同时由于产品长期暴露在空气中，对耐候耐老化性能至少有着25年的可正常使用标准，此外针对抗污耐腐蚀与高透光等皆是使用之重要要求。迄今，由于国内技术短缺；厂商们还是以进口美国3M产品为主，发展自身的超高阻水率户外使用的复合膜产品迫在眉睫。

发明内容

发明目的：本发明的第一目的是提供一种阻水率高、耐候耐老化性能优、抗污且透光率高的复合膜；

本发明的第二目的是提供该复合膜的制备方法。

技术方案：本发明的高透光耐候性复合膜，该保护膜从下至上依次包括基膜、胶粘层及外层膜；其中，胶粘层由胶水液涂覆于基膜上制得，该胶水液按重量份数计包括如下原料：甲基苯基硅树脂40-50份、聚硅氧烷10-20份、二氧化钛0.1-0.5份及二甲苯30-40份。

本发明通过以甲基苯基硅树脂及聚硅氧烷为主剂，二氧化钛为助剂，二甲苯为溶剂复配制备复合膜，在搅拌分散均匀条件下，硅树脂发生水解反应形成硅氧键直链结构，如下结构所示，经过烘箱固化后，链状结构互相交叉，胶粘层最终为网状结构，进而使得该胶粘层耐老化、耐黄变特性强，为半导体、显示、太阳能电池等产品提供了稳定保障；同时将该胶粘层、基膜及外层莫进行复合，进而制备的复合膜阻水率可达3×10^-3-10^-4g/m²·day，耐48h PCT高强度老化。

其中，R1＝CH₃；R2＝C₂H₅CH₃C₆H₅。

进一步说，本发明基膜的厚度为100-125μm。胶粘层的厚度为20-40μm。外层膜的厚度为25-35μm。胶粘液由如下步骤制得：按重量份数将甲基苯基硅树脂、聚硅氧烷、二氧化钛及二甲苯混合后，在400-600rpm搅拌20-30min，制得胶粘层的胶粘液。外层膜按重量份数计包括如下原料：聚偏氟乙烯70-90份、聚甲基丙烯酸甲酯10-30份、二氧化钛0.05-1份、UV329粉料0.1-1份及UV-P粉料0.1-1份。外层膜由如下步骤制得：将聚偏氟乙烯70-90份、聚甲基丙烯酸甲酯10-30份、二氧化钛0.05-1份、UV329粉料0.1-1份及UV-P粉料0.1-1份混合，在160-200℃条件下造粒、挤出后，在130-150℃条件下拉伸制得。

本发明制备高透光耐候性复合膜的方法，包括如下步骤：在130-150℃条件下将胶粘液涂覆于基膜表面，随后与外层膜贴合，即制得该保护膜。

更进一步说，制备时涂覆的线速度为30-60m/min。