[发明专利]电镀强酸溶液液下图像监控装置及系统在审

专利信息
申请号: 201911406288.1 申请日: 2019-12-31
公开(公告)号: CN110933381A 公开(公告)日: 2020-03-27
发明(设计)人: 陈斌;卢耀普;卢振华;黄治国;胡刚 申请(专利权)人: 悦虎晶芯电路(苏州)股份有限公司
主分类号: H04N7/18 分类号: H04N7/18;H04N5/225;G08B21/18
代理公司: 苏州国诚专利代理有限公司 32293 代理人: 李凤娇
地址: 215000 江苏省苏*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 电镀 强酸 溶液 图像 监控 装置 系统
【说明书】:

发明公开了一种电镀强酸溶液液下图像监控装置及系统,该装置包括微型摄像头、保护外壳、驱动组件、光导纤维线和控制器,所述保护外壳包括第一部分壳体和第二部分壳体,所述微型摄像头设置于所述第一部分壳体内,所述驱动组件与所述微型摄像头传动连接,所述微型摄像头借助所述光导纤维线与所述控制器连接,所述光导纤维线与所述微型摄像头连接的一端设置于所述第二部分壳体内。本发明通过将微型摄像头设置于保护外壳内,并利用驱动组件带动摄像头活动,从而使微型摄像头能够在电镀液液下监控电镀过程,并能够及时查看电镀过程并发现异常。

技术领域

本发明涉及电镀强酸溶液液下图像监控技术,尤其涉及电镀强酸溶液液下图像监控装置及系统。

背景技术

在电路板生产工艺中电镀是一种不可或缺的工艺,因此现代新型高尖端产品对电镀工艺也提出了更高的要求,我们除了从工艺上不断进行改进提高外,对生产过程中的实时监控也提出了新的要求,在强酸电镀液环境中进行检测显得尤为重要。

目前电镀过程中,电镀槽内的状况难以监测。电镀槽内为不低于20%浓度的强酸溶液环境,且电镀过程中高电流电场会对监测设备造成很大的干扰,因此难以及时监测到生产异常。

发明内容

本发明的目的在于提供能够用于电镀过程中图像监控的、耐酸抗干扰的电镀强酸溶液液下图像监控装置及系统。

以下给出一个或多个方面的简要概述以提供对这些方面的基本理解。此概述不是所有构想到的方面的详尽综览,并且既非旨在指认出所有方面的关键性或决定性要素亦非试图界定任何或所有方面的范围。其唯一的目的是要以简化形式给出一个或多个方面的一些概念以为稍后给出的更加详细的描述之序。

根据本发明的一方面,提供了一种电镀强酸溶液液下图像监控装置,包括微型摄像头、保护外壳、驱动组件、光导纤维线和控制器,所述保护外壳包括第一部分壳体和第二部分壳体,所述微型摄像头设置于所述第一部分壳体内,所述驱动组件与所述微型摄像头传动连接,所述微型摄像头借助所述光导纤维线与所述控制器连接,所述光导纤维线与所述微型摄像头连接的一端设置于所述第二部分壳体内。

在一实施例中,该装置的所述保护外壳包括设置于内侧的屏蔽层和设置于外侧的耐酸层。

在一实施例中,该装置的所述屏蔽层的材料为金属,所述屏蔽层的厚度为0.5mm~3mm。

在一实施例中,该装置的所述耐酸层的材料为透明的聚四氟乙烯,所述耐酸层的厚度为2mm~5mm。

在一实施例中,该装置的所述第一部分壳体的屏蔽层前端面开设有窗口,所述窗口的位置与所述微型摄像头的位置对应,所述窗口上覆盖有透明屏蔽膜。

在一实施例中,该装置的所述驱动组件包括x轴滑轨、x轴滑块、x轴驱动器、y轴滑轨、y轴滑块和y轴驱动器,所述x轴滑块滑动配接于所述x轴滑轨上,所述x轴滑块与所述x轴驱动器传动连接,所述y轴滑轨固定设置于所述x轴滑块上,所述y轴滑块滑动配接于所述y轴滑轨上,所述y轴滑块与所述y轴驱动器传动连接。

在一实施例中,该装置的所述第二部分壳体与所述y轴滑块固定连接,所述光导纤维线从所述第二部分壳体内穿出。

根据本发明的另一方面,还提供了一种电镀强酸溶液液下图像监控系统,包括上述任一权利要求所述的监控装置,还包括上位机和下位机,所述上位机和下位机均与所述监控装置信号连接。

在一实施例中,该的所述上位机为服务器,所述下位机为PLC控制柜。

在一实施例中,该的所述服务器包括电镀监控模块、图像监控模块和报警模块,所述电镀监控模块与电镀槽系统信号连接,所述图像监控模块与监控装置信号连接,所述报警模块与报警器信号连接。

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