[发明专利]一种印鉴有效

专利信息
申请号: 201911404531.6 申请日: 2019-12-12
公开(公告)号: CN111038124B 公开(公告)日: 2022-05-13
发明(设计)人: 刘丽君 申请(专利权)人: 张家界航空工业职业技术学院
主分类号: B41K3/04 分类号: B41K3/04;B41K3/26
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 427000 湖南省*** 国省代码: 湖南;43
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摘要:
搜索关键词: 一种 印鉴
【权利要求书】:

1.一种印鉴,其特征是:印鉴主要由上印章(4)、弹簧(5)、下印章(6)组成,所述的上印章(4)主要由上印章大头(41)、上印章限位柱(42)、上印章小头(43)、盖印部(44)组成,上印章大头(41)位于上印章限位柱(42)的下方,上印章大头(41)的外径=弹簧孔(132)的内径,上印章限位柱(42)位于上印章(4)的最上方,上印章限位柱(42)和上印章定位孔(14)配合,上印章限位柱(42)的外径=上印章定位孔(14)的内径,上印章小头(43)位于上印章大头(41)的下方,上印章小头(43)的外径小于上印章大头(41)的外径,上印章小头(43)用来穿过弹簧(5),上印章小头(43)的外径=上印章出口(133)的内径,上印章小头(43)的最前端为盖印部(44);

所述的下印章(6)有下印章限位柱(61),下印章限位柱(61)的外径=下印章定位孔(16)的内径,下印章(6)的外径=下印章孔(12)的内径,

所述的上印章(4)和下印章(6)其印章图案是印章的图案或者文字经过分拆之后,分布在上印章(4)和下印章(6)上,盖出来的图案经过对着光线照射为完整的公章图案,纸张正反面的图案或者文字的偏移量不能超过0.1mm,所述的偏移量是以一面文字和图案为参照物,另一面的文字和图案到参照物的距离与设计的距离的偏差值。

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