[发明专利]环保型高稳定性面板用水系光刻胶剥离液及其制备方法

说明书

本发明实施例公开了环保型高稳定性面板用水系光刻胶剥离液及其制备方法，制备所述环保型高稳定性面板用水系光刻胶剥离液的原料包括有机溶剂、有机胺、防腐剂、表面活性剂和去离子水，且各组分的重量份数分别为有机溶剂25～70份、有机胺10～50份、防腐剂0.1～5份、表面活性剂0.1～5份、去离子水10～35份。本发明实施例提供的环保型高稳定性面板用水系光刻胶剥离液利用有机溶剂、有机胺和去离子水将光刻胶溶解并将其去除，通过将苯并三氮唑、1‑羟基苯并三氮唑、肉桂基咪唑啉和苯并咪唑配合使用能够有效避免在去除光刻胶时可能造成的金属腐蚀问题。通过添加表面活性剂能够降低剥离液的表面张力，使得溶剂在遇到深孔剥离时能将其清洗干净。

技术领域

本发明涉及化学蚀刻领域，具体涉及一种环保型高稳定性面板用水系光刻胶剥离液及其制备方法与应用。

背景技术

光刻胶又称光致抗蚀剂，主要由感光树脂、增感剂和溶剂三种成分组成。感光树脂经光照后，在曝光区能很快地发生光固化反应，使得这种材料的物理性能，特别是溶解性、亲合性等发生明显变化。经曝光、显影、刻蚀、扩散、离子注入、金属沉积等工艺将所需的微细图形从掩模版转移至加工的基板上、最后通过去胶剥离液将未曝光部分余下的光刻胶清洗掉，从而完成整个图形转移过程，当然对于不同制程的面板，由于制程及光刻胶成分的差异性，所用剥离液的成分存在一定的差异。

目前，剥离液在使用时容易造成面板腐蚀，给人们带来不便，成为人们亟待解决的问题。

发明内容

为此，本发明实施例提供一种环保型高稳定性面板用水系光刻胶剥离液及其制备方法与应用，以解决现有技术中剥离液在使用时容易造成面板腐蚀，给人们带来不便的问题。

为了实现上述目的，本发明实施例提供如下技术方案：

根据本发明实施例的第一方面，提供一种环保型高稳定性面板用水系光刻胶剥离液，制备所述环保型高稳定性面板用水系光刻胶剥离液的原料包括有机溶剂、有机胺、防腐剂、表面活性剂和去离子水，且各组分的重量份数分别为有机溶剂25～70份、有机胺10～50份、防腐剂0.1～5份、表面活性剂0.1～5份、去离子水10～35份。

进一步的，制备所述环保型高稳定性面板用水系光刻胶剥离液的原料包括按重量份数计算的以下组分：有机溶剂42.5份、有机胺30份、防腐剂2.55份、表面活性剂1.5份、去离子水22.5份。

进一步的，制备所述环保型高稳定性面板用水系光刻胶剥离液的原料还包括按重量份数计算的以下组分：苯并三氮唑2.5份、1-羟基苯并三氮唑3份。

进一步的，制备所述环保型高稳定性面板用水系光刻胶剥离液的原料包括按重量份数计算的以下组分：二甘醇单丁醚20份、甲氧基丙基乙酸酯18.5份、二乙醇胺12份、三乙醇胺10份、六甲基磷酰三胺8份、肉桂基咪唑啉1.2份、苯并咪唑0.8份、双子非离子表面活性剂1.5份、苯并三氮唑2.5份、1-羟基苯并三氮唑3份、去离子水22.5份。

进一步的，所述有机溶剂包括N-甲基吡咯烷酮、N，N-二甲基乙酰胺、二甘醇单丁醚、甲氧基丙基乙酸酯中的任意一种或两种以上的组合。

进一步的，所述有机胺包括N，N-二甲基甲酰胺、二乙醇胺、三乙醇胺、六甲基磷酰三胺、异丙醇胺、乙醇胺中的任意一种或两种以上的组合。

进一步的，所述防腐剂包括羟基乙叉二膦酸、肉桂基咪唑啉、苯并咪唑、甲基苯并三氮唑、没食子酸、邻苯二酚中的任意一种或两种以上的组合。

进一步的，所述表面活性剂包括聚氧丙烯醚、双子非离子表面活性剂、四丁基溴化铵中的任意一种或两种以上的组合。

根据本发明实施例的第二方面，提供一种环保型高稳定性面板用水系光刻胶剥离液的制备方法，包括以下步骤：

步骤一、按制备所述环保型高稳定性面板用水系光刻胶剥离液的原料称取各组分；