[发明专利]壳体组件、壳体组件的制备方法及电子设备

权利要求书

1.一种壳体组件，其特征在于，包括透明衬底和设置在所述透明衬底上的光学膜层、第一颜色层和修饰层；

所述第一颜色层设置在所述光学膜层的表面，所述第一颜色层具有镂空部；

所述修饰层中靠近所述光学膜层的层当中，一部分设置在所述第一颜色层远离所述光学膜层的表面，另一部分设置在所述镂空部内，所述修饰层包括第二颜色层和设置在所述第二颜色层表面的镀膜层，所述第二颜色层和所述镀膜层中靠近所述光学膜层的层的光学透过率大于30％，所述第一颜色层的光学透过率小于10％，所述第一颜色层和所述第二颜色层的颜色不同。

2.如权利要求1所述的壳体组件，其特征在于，所述光学膜层设置在所述透明衬底的表面，所述第一颜色层和所述修饰层设置在所述光学膜层远离所述透明衬底的表面。

3.如权利要求1所述的壳体组件，其特征在于，所述修饰层设置在所述透明衬底的表面，所述光学膜层和所述第一颜色层设置在所述修饰层远离所述透明衬底的表面。

4.如权利要求1所述的壳体组件，其特征在于，还包括第一纹理层，所述第一纹理层设置在所述光学膜层远离所述修饰层的表面。

5.如权利要求1所述的壳体组件，其特征在于，所述修饰层还包括第二纹理层，所述第二纹理层设置在所述镀膜层靠近所述光学膜层的表面。

6.如权利要求1所述的壳体组件，其特征在于，所述光学膜层的材质包括TiO₂、NbO₂、Nb₂O₃、Nb₂O₂、Nb₂O₅、SiO₂和ZrO₂中的至少一种。

7.如权利要求1所述的壳体组件，其特征在于，所述光学膜层由至少两种具有不同折射率的光学薄膜交替层叠形成，所述光学膜层的厚度为80nm-500nm。

8.如权利要求1所述的壳体组件，其特征在于，所述镀膜层的材质包括In、Sn、TiO₂、NbO₂、Nb₂O₃、Nb₂O₂、Nb₂O₅、SiO₂和ZrO₂中的至少一种，所述镀膜层的厚度为20nm-500nm。

9.如权利要求1所述的壳体组件，其特征在于，所述透明衬底的材质包括聚碳酸酯、聚甲基丙烯酸甲酯、聚对苯二甲酸乙二醇酯和热塑性聚氨酯的至少一种，所述透明衬底的厚度为0.05mm-0.8mm。

10.一种壳体组件的制备方法，其特征在于，包括：

提供透明衬底，在所述透明衬底上成型光学膜层、第一颜色层和修饰层，其中，所述第一颜色层设置在所述光学膜层的表面，所述第一颜色层具有镂空部；所述修饰层靠近所述光学膜层的层当中，一部分设置在所述第一颜色层远离所述光学膜层的表面，另一部分设置在所述镂空部露出的所述光学膜层的表面，所述修饰层包括第二颜色层和设置在所述第二颜色层表面的镀膜层，所述第二颜色层和所述镀膜层中靠近所述光学膜层的层的光学透过率大于30％，所述第一颜色层的光学透过率小于10％，所述第二颜色层和所述第一颜色层的颜色不同。