[发明专利]一种用于镀制光学薄膜的ZrOx

权利要求书

1.一种用于镀制光学薄膜的ZrO_x的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：

(1)以ZrO₂和ZrH₂粉体为原料，按一定比例称量后进行混合；

(2)混合均匀后的粉体进行压块或造粒，得到块体或颗粒；

(3)得到的块体或颗粒在高温真空下进行固相合成反应；

(4)反应结束在真空下冷却至室温，得到ZrO_x镀膜材料；

其中，步骤(1)中的ZrO₂和ZrH₂粉体目数要求为-250目，原料配比为ZrO₂ 35wt％～75wt％，ZrH₂ 25wt％～65wt％；

步骤(3)中得到的块体或颗粒的高温固相合成温度为1500～2100℃。

2.根据权利要求1所述的一种用于镀制光学薄膜的ZrO_x的制备方法，其特征在于，步骤(1)所述混合方式为搅拌混合或球磨混合。

3.根据权利要求1所述的一种用于镀制光学薄膜的ZrO_x的制备方法，其特征在于，步骤(1)中ZrO₂和ZrH₂混合时间4～10小时。

4.根据权利要求1所述的一种用于镀制光学薄膜的ZrO_x的制备方法，其特征在于，所述压块为在300～800N/cm²的压力下压块，得到块体；所述造粒为在300～800N/cm²的压力下压块，然后将得到的块体进行破碎，筛分后收集粒度为1-5mm的颗粒。

5.据权利要求1所述的一种用于镀制光学薄膜的ZrO_x的制备方法，其特征在于，得到的块体或颗粒的固相合成真空度为10Pa～1x10^-3Pa。

6.根据权利要求1所述的一种用于镀制光学薄膜的ZrO_x的制备方法，其特征在于，得到的块体或颗粒的固相合成时间为3～20小时。

7.一种根据权利要求1至6任一项所述的用于镀制光学薄膜的ZrO_x的制备方法制备的ZrO_x，其特征在于，该ZrO_x中x＝0.8～1.2。