[发明专利]一种Mark点图形及其制备方法

说明书

本发明属于电池制备技术领域，公开了一种Mark点图形及其制备方法，该Mark点图形包括多个同心圆，每个圆的外廓均为虚线，且内外相邻的两个圆的虚实部分交错对应。该制备方法包括：S1、激光设备根据预设坐标在电池片表面的四角处各画出一个预设直径的基圆；S2、在基圆的基础上由内向外进行同心圆式填充或螺旋线式填充得到Mark点基础图形；S3、设置虚实比，并选中Mark点基础图形进行激光打标得到Mark点图形。能有效减少重叠打标的现象，从而减少Mark点区域的损伤，在后续工序中Mark点图形更容易被识别，减少报警次数，同时减少打标时间，提升产能。

技术领域

本发明涉及电池制备技术领域，尤其涉及一种Mark点图形及其制备方法。

背景技术

随着晶硅电池科学与技术的发展，PERC电池已经逐渐成为市场主流，PERC叠加SE技术是一种有效的提升电池效率的技术路径，也是一种容易实现、耗费成本较低的一种技术手段，其中叠加SE技术是通过激光掺杂技术实现的，其中激光掺杂图形Mark点是该技术的一个关键点。

在用激光制作选择性发射极结构中，需要打出电池在印刷时的对位Mark点，一般需要四个在固定位置的圆点，分别位于硅片的四个角区域，这四个Mark点是相互独立的，制作过程中需要激光器单独打标，Mark点打标时间的长短影响整台设备的产能。

如图1所示，目前行业内常规的Mark点图形1’是一组同心圆，而制作Mark点图形1’采用的激光都是圆形光斑且光斑直径为120um，同心圆图形外圆直径为500um，内部共有4个圆，激光打标的时候会在内部两圆交界处重叠打标，这样同一位置经过两次激光打标之后会出现损伤的情况，损伤在丝印相机下不容易被识别而造成设备报警，且会在一定程度对电池片的转换效率造成影响，严重影响产线产能。

因此，亟需提出一种新型的Mark点图形及其制备方法，来解决现有技术中存在的上述技术问题。

发明内容

本发明的一个目的在于提供一种Mark点图形，减少了Mark点图形的重复打标，从而减少了Mark点区域的损伤，同时减少打标时间，提升产能。

本发明的另一个目的在于提供一种Mark点图形的制备方法，能减少Mark点区域的损伤，减少报警次数，同时减少打标时间，提升产能。

为达此目的，本发明采用以下技术方案：

一种Mark点图形，包括多个同心圆，每个圆的外廓均为虚线，且内外相邻的两个圆的虚实部分交错对应。

作为上述Mark点图形的优选技术方案，所述同心圆的数量设置为四个。

一种如上所述的Mark点图形的制备方法，包括以下步骤：

S1、激光设备根据预设坐标在电池片表面的四角处各画出一个预设直径的基圆；

S2、在所述基圆的基础上由内向外进行同心圆式填充或螺旋线式填充得到Mark点基础图形；

S3、设置虚实比，并选中所述Mark点基础图形进行激光打标得到所述Mark点图形。

作为上述Mark点图形的制备方法的优选技术方案，所述基圆的所述预设直径为0.6mm。

作为上述Mark点图形的制备方法的优选技术方案，步骤S2中，所述同心圆式填充过程中的填充圈距为0.06mm。

作为上述Mark点图形的制备方法的优选技术方案，所述Mark点基础图形包括四个同心圆。

作为上述Mark点图形的制备方法的优选技术方案，在步骤S3中，设置虚实比包括选择脉冲挑选功能，并设定脉冲周期数和脉冲选中数；或

设置虚实比包括选择虚实线设定功能，并设定实线和虚线。