[发明专利]一种调节盆栽植物根系环境温度的方法

说明书

本发明公开了一种调节盆栽植物根系环境温度的方法，步骤包括：种植前的准备，在内盆的栽培基质内设置温度传感器和湿度传感器，将温度传感器和湿度传感器与控制系统相连接，在所述控制系统内设定温度限定值范围阈值及基质湿度限定值范围阈值；控制系统通过对采集的温度以及湿度数据分析判定，自动生成响应调控指令，将指令传送至执行机构；执行机构与所述滴管相连通，执行机构收到控制命令，按照指令控制供水方式及供水时间；完成命令，等待下一轮的数据采集，以此循环。本发明一种调节盆栽植物根系环境温度的方法，有效提高了水分和营养的利用效率，可搭载至温室环境控制系统中，实现对温室整体环境的控制。

技术领域

本发明涉及植物根系温湿度调节方法领域，特别是涉及一种调节盆栽植物根系环境温度的方法。

背景技术

中国地域辽阔，区域气候差异和季节变化较大，温室设施通过温控设备，如湿-帘风机系统、空调、锅炉、太阳能、遮阳网系统等调控温室整体的环境温度，从而创造出适合植物生长的环境条件，为实现植物的周年生产及产品供应提供了可能。但在许多地区夏季极端高温和冬季极端低温时段，一般温室的环控系统很难实现完全控制到理想设定适宜范围，而且温控设备投资较高，运行成本巨大，极大地增加了温室生产的成本。

研究表明，在受到高温或低温胁迫时，植物根系极易受到影响，乃至造成永久伤害，从而影响植物的正常生长,而通过调控根域环境的温度，使根系始终处于生长的适宜温度范围内，可以有效降低甚至消除高温或低温胁迫，通过局部环境温度的控制使植物能够正常渡过酷暑和严冬季节，而且可大大降低调控温室整体环境温度的成本投入。

在温室生产中，滴灌设备的应用有效提高了水分的利用效率，降低了营养液的使用成本，应用效果较好，但由于其较长较细的管道，在高温或低温等极端天气时无法通过调节滴灌营养液温度的方式实现植物根系生长环境的温度调控。

发明内容

本发明主要解决的技术问题是提供一种调节盆栽植物根系环境温度的方法，有效提高了水分和营养的利用效率，在根系生长环境温度超过限定值范围时，通过向植物根系直接供应适宜温度的营养液或灌溉水，实现对植物根系生长环境的湿度和温度调控。

为解决上述技术问题，本发明采用的一个技术方案是：

提供一种调节盆栽植物根系环境温度的方法，步骤包括：

（1）种植前的准备：准备内外套双层套盆，在内盆内铺设栽培基质，在双层套盆侧面设置滴管，将滴管下端连接滴管进液罐；双层套盆的下方连通营养液池；

（2）在内盆的栽培基质内设置温度传感器和湿度传感器；

（3）将温度传感器和湿度传感器与控制系统相连接，在所述控制系统内设定温度限定值范围阈值及基质湿度限定值范围阈值；

（4）控制系统通过对采集的温度以及湿度数据分析判定，自动生成响应调控指令，将指令传送至执行机构；执行机构与所述滴管相连通，执行机构收到控制命令，按照指令控制供水方式及供水时间；完成命令，等待下一轮的数据采集，以此循环。

在本发明一个较佳实施例中，所述双层套盆由上开口的外盆和上开口和檐缘的内盆组成。

在本发明一个较佳实施例中，所述外盆为不透水结构，外盆的底部连接回水收集管道，所述内盆具多孔结构，可以使水分自由进出，所述内盆的檐缘可悬挂于外盆上口。

在本发明一个较佳实施例中，所述外盆和内盆底部设置有2〜3cm的间距。

在本发明一个较佳实施例中，所述回水收集管道与所述营养液池相连通。

在本发明一个较佳实施例中，所述栽培基质的颗粒大于所述内盆上开设的通孔的孔径。

在本发明一个较佳实施例中，步骤1中，在高温天气将栽培基质摊在水泥地上曝晒3〜7天，以对栽培基质进行消毒处理。