[发明专利]纳米材料及其制备方法、量子点发光二极管及其制备方法在审
申请号: | 201911383590.X | 申请日: | 2019-12-28 |
公开(公告)号: | CN113054144A | 公开(公告)日: | 2021-06-29 |
发明(设计)人: | 何斯纳;吴龙佳;吴劲衡 | 申请(专利权)人: | TCL集团股份有限公司 |
主分类号: | H01L51/54 | 分类号: | H01L51/54;H01L51/50;H01L51/56;B82Y30/00;B82Y40/00 |
代理公司: | 深圳中一联合知识产权代理有限公司 44414 | 代理人: | 黄志云 |
地址: | 516006 广东省*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 纳米 材料 及其 制备 方法 量子 发光二极管 | ||
1.一种纳米材料,其特征在于,所述纳米材料包括Alq3纳米材料和掺杂在Alq3晶格中的Er元素。
2.如权利要求1所述的纳米材料,其特征在于,所述纳米材料由Alq3纳米材料和掺杂在Alq3晶格中的Er元素组成,以所述纳米材料的总质量为100%计,所述Er元素的重量百分含量为5%~15%。
3.如权利要求1或2所述的纳米材料,其特征在于,掺杂在Alq3晶格中的金属Er的纯度为99.9%~99.99%。
4.一种纳米材料的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:
提供金属Er和Alq3,分别置于蒸发室中;
提供真空环境,将所述金属Er和所述Alq3进行共蒸镀,且所述共蒸镀的步骤中,调节:所述金属Er的蒸发电流为30A~33A、蒸发速率为所述Alq3的蒸发电流为35A~38A,蒸发速率为制备得到Er元素掺杂到Alq3晶格中的纳米材料。
5.如权利要求4所述的纳米材料的制备方法,其特征在于,将所述金属Er和所述Alq3进行共蒸镀的步骤中,所述共蒸镀的时间为1min~5min。
6.如权利要求4所述的纳米材料的制备方法,其特征在于,将所述金属Er和所述Alq3进行共蒸镀的步骤中,所述真空环境的真空度为2×10-4Pa~5×10-4Pa。
7.如权利要求4至6任一项所述的纳米材料的制备方法,其特征在于,所述金属Er的纯度为99.9%~99.99%。
8.一种量子点发光二极管,其特征在于,包括相对设置的阴极和阳极,在所述阴极和所述阳极之间设置的量子点发光层,以及在所述阴极和所述量子点发光层之间设置的电子传输层,所述电子传输层的材料包括Alq3纳米材料和掺杂在Alq3晶格中的Er元素。
9.如权利要求8所述的量子点发光二极管,其特征在于,所述电子传输层的材料由Alq3纳米材料和掺杂在Alq3晶格中的Er元素组成,以所述电子传输层的材料的总质量为100%计,所述Er元素的重量百分含量为5%~15%。
10.如权利要求8或9所述的量子点发光二极管,其特征在于,所述电子传输层的厚度为30nm~70nm。
11.一种量子点发光二极管的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:
提供基板,将所述基板置于蒸镀室中;提供金属Er和Alq3,分别置于蒸发室中;
提供真空环境,将所述金属Er和所述Alq3进行共蒸镀,且所述共蒸镀的步骤中,调节:所述金属Er的蒸发电流为30A~33A、蒸发速率为所述Alq3的蒸发电流为35A~38A,蒸发速率为在所述基板上沉积Er元素掺杂到Alq3晶格中形成的电子传输层。
12.如权利要求11所述的量子点发光二极管的制备方法,其特征在于,将所述金属Er和所述Alq3进行共蒸镀的步骤中,所述共蒸镀的时间为3min~5min。
13.如权利要求11或12所述的量子点发光二极管的制备方法,其特征在于,将所述金属Er和所述Alq3进行共蒸镀的步骤中,所述真空环境的真空度为2×10-4Pa~5×10-4Pa。
14.如权利要求11或12所述的量子点发光二极管的制备方法,其特征在于,所述金属Er的纯度为99.9%~99.99%。
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