[发明专利]离子源在审
申请号: | 201911382854.X | 申请日: | 2019-12-27 |
公开(公告)号: | CN111161987A | 公开(公告)日: | 2020-05-15 |
发明(设计)人: | 胡琅;胡强;徐平;冯杰;侯立涛;方威;尤晶 | 申请(专利权)人: | 季华实验室 |
主分类号: | H01J3/04 | 分类号: | H01J3/04 |
代理公司: | 佛山市海融科创知识产权代理事务所(普通合伙) 44377 | 代理人: | 陈志超;黄家豪 |
地址: | 528200 广东省佛山市*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 离子源 | ||
本发明提供一种离子源,包括:一阴极壳体,其包括底壁、顶壁以及连接底壁和顶壁的侧壁,所述底壁、顶壁以及侧壁围成一容纳空间,所述顶壁上开设有呈迂回曲折延伸的开口,壳体上设置有电极以及一通气孔;一阴极板条,其与所述开口的形状适配,阴极板条设置于所述开口处并沿着所述开口迂回曲折延伸,阴极板条的外侧缘与所述开口的内侧缘间隔预设距离以形成迂回曲折延伸的狭缝;一阳极,其设置于所述壳体内并位于狭缝正对,所述阳极沿着所述狭缝的延伸方向迂回曲折延伸;一永磁体,其设置于所述容纳空间内并位于所述阴极板条相对,所述永磁体沿着所述阴极板条的延伸方向迂回曲折延伸。本发明实施例提供的离子源可以提高离子源的效率,节省空间。
技术领域
本发明涉及离子源技术领域,具体而言,涉及一种离子源。
背景技术
阳极离子源通过在真空条件下离化气体原子,然后聚焦,加速和发射已经离化的离子。可以用来作为真空清洗,抛光,薄膜沉积及刻蚀。常用的线性离子源是矩形状,离化的效率不高,如何增大离子源的效率是一个需要解决的问题。
因此,现有技术存在缺陷,急需改进。
发明内容
本发明实施例的目的在于提供一种离子源,用以提高效率。
本发明实施例提供了一种离子源,包括:
一阴极壳体,其包括底壁、顶壁以及连接底壁和顶壁的侧壁,所述底壁、顶壁以及侧壁围成一容纳空间,所述顶壁上开设有呈迂回曲折延伸的开口,所述壳体上设置有电极以及一通气孔;
一阴极板条,其与所述开口的形状适配,所述阴极板条设置于所述开口处并沿着所述开口迂回曲折延伸,所述阴极板条的外侧缘与所述开口的内侧缘间隔预设距离以形成迂回曲折延伸的狭缝;
一阳极,其设置于所述壳体内并位于所述狭缝正对,所述阳极沿着所述狭缝的延伸方向迂回曲折延伸;
一永磁体,其设置于所述容纳空间内并位于所述阴极板条相对,所述永磁体沿着所述阴极板条的延伸方向迂回曲折延伸。
可选地,在本发明实施例所述的离子源中,所述阴极板条包括相对的第一外侧边以及第二外侧边,所述第一开口包括第一内侧边以及第二内侧边;
所述第一外侧边临近所述第一内侧边且间隔第一预设距离,所述第二外侧边临近所述第二内侧边且间隔第一预设距离,所述阴极板条的第一外侧边以及第二外侧边与所述第一开口的第一内侧边以及第二内侧边围成首尾相连的环状狭缝。
可选地,在本发明实施例所述的离子源中,由内向外,所述狭缝的宽度逐渐增大。
可选地,在本发明实施例所述的离子源中,所述阴极板条包括相对的第一外侧边以及第二外侧边,所述第一开口包括第一内侧边以及第二内侧边;
所述第一外侧边临近所述第一内侧边且间隔第一预设距离,所述第二外侧边临近所述第二内侧边接触,所述阴极板条的第一外侧边以及第二外侧边与所述第一开口的第一内侧边以及第二内侧边围成条状狭缝。
可选地,在本发明实施例所述的离子源中,所述阴极板条以及所述开口均呈S形。
可选地,在本发明实施例所述的离子源中,所述阴极板条以及所述开口均呈N形。
可选地,在本发明实施例所述的离子源中,所述电极设置于所述底壳底壁上。
可选地,在本发明实施例所述的离子源中,所述通气孔设置于所述底壁上并与所述电极相对设置。
可选地,在本发明实施例所述的离子源中,所述阴极板条为铁磁性材料板条。
可选地,在本发明实施例所述的离子源中,所述阳极为不锈钢条。
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