[发明专利]显示基板、其制作方法及显示装置有效

专利信息
申请号: 201911378072.9 申请日: 2019-12-27
公开(公告)号: CN110928037B 公开(公告)日: 2022-05-17
发明(设计)人: 张致远;桂坤;白婷婷;王建栋 申请(专利权)人: 上海天马微电子有限公司
主分类号: G02F1/1335 分类号: G02F1/1335;G02F1/1333
代理公司: 北京晟睿智杰知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 11603 代理人: 于淼
地址: 201201 上海*** 国省代码: 上海;31
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 显示 制作方法 显示装置
【说明书】:

本申请提供一种显示基板、其制作方法及显示装置,涉及显示技术领域,包括彩膜基板,彩膜基板包括衬底基板、遮光层、色阻层和微结构层;遮光层包括遮光部和开口,开口沿垂直于衬底基板的方向上贯穿遮光层;色阻层包括多个色阻,色阻位于开口内;微结构层位于衬底基板与遮光层之间,包括呈阵列排布的微结构,各微结构靠近遮光层的一侧形成第一凹凸结构;微结构层的折射率为n1,衬底基板的折射率为n2,n1和n2的差值小于等于预定值。本申请在衬底基板与遮光层之间设置与衬底基板的折射率相近的微结构层,避免衬底基板与遮光层之间的折射率差异较大造成光反射率较大的问题,有利于降低显示基板的总反射率,改善显示效果,提升用户观看体验。

技术领域

本申请涉及显示技术领域,具体地说,涉及一种显示基板、其制作方法及显示装置。

背景技术

近年来,液晶显示装置(Liquid Crystal Display,简称LCD)产品发展十分迅猛,越来越多高品质的液晶显示器逐渐上市,其应用领域也不断拓宽。

液晶显示装置通常包括阵列基板、彩膜基板以及设置在彩膜基板靠近出光面一侧的导电层、偏光片等,由于各个膜层之间的折射率存在差异,因此,当有光照射时,各个膜层之间会存在光反射,造成光损耗。此外,彩膜基板包括衬底基板、遮光层和色阻层,由于遮光层和色阻层存在较强的反射,使得显示基板的总反射率增高,而当显示基板的总反射率较高时,将严重影响显示画面的观看效果,甚至会造成完全看不清显示画面的问题,影响用户观看体验。

发明内容

有鉴于此,本申请提供一种显示基板、其制作方法及显示装置,在衬底基板与遮光层之间设置与衬底基板的折射率相近的微结构层,避免衬底基板与遮光层之间的折射率差异较大造成光反射率较大的问题,有利于降低显示基板的总反射率,改善显示效果,提升用户观看体验。

为了解决上述技术问题,本申请有如下技术方案:

第一方面,本申请提供一种显示基板,包括:彩膜基板,所述彩膜基板包括:

衬底基板;

遮光层,所述遮光层包括多个遮光部和多个开口,所述开口沿垂直于所述衬底基板的方向上贯穿所述遮光层;

色阻层,所述色阻层包括多个色阻,所述色阻位于所述开口内;

微结构层,所述微结构层位于所述衬底基板与所述遮光层之间;所述微结构层包括多个呈阵列排布的微结构,各所述微结构靠近所述衬底基板的一侧形成一平面,各所述微结构靠近所述遮光层的一侧形成第一凹凸结构;所述微结构层的折射率为n1,所述衬底基板的折射率为n2,其中,n1和n2的差值小于等于预定值N。

第二方面,本申请提供一种显示基板的制作方法,包括:

提供衬底基板,所述衬底基板的折射率为n2;

在所述衬底基板的一侧形成微结构层,所述微结构层的折射率为n1,n1和n2的差值小于等于预定值N;采用压印模具压印在所述微结构层远离所述衬底基板的一侧,进行固化处理,形成多个呈阵列排布的微结构,各所述微结构靠近所述衬底基板的一侧形成一平面,各所述微结构远离所述衬底基板的一侧形成第一凹凸结构;

在所述微结构层远离所述衬底基板的一侧设置遮光层,所述遮光层包括多个遮光部和多个开口,所述开口沿垂直于所述衬底基板的方向上贯穿所述遮光层;

形成包括多个色阻的色阻层,所述色阻位于所述开口内。

第三方面,本申请还提供一种显示装置,包括显示基板,该显示基板为本申请所提供的显示基板。

与现有技术相比,本发明提供的显示基板、其制作方法及显示装置,至少实现了如下的有益效果:

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海天马微电子有限公司,未经上海天马微电子有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201911378072.9/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top