[发明专利]一种光刻胶树脂单体及其合成方法在审
| 申请号： | 201911373699.5 | 申请日： | 2019-12-25 |
| 公开（公告）号： | CN111138281A | 公开（公告）日： | 2020-05-12 |
| 发明（设计）人： | 喻珍林;蒋小惠;李嫚嫚;郭颖 | 申请（专利权）人： | 上海博栋化学科技有限公司 |
| 主分类号： | C07C67/14 | 分类号： | C07C67/14;C07C69/54;C08F22/14;G03F7/004 |
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| 地址： | 201614 上海市松江*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 光刻 树脂 单体 及其 合成 方法 | ||
【权利要求书】：
1.一种光刻胶树脂单体，其特征在于，所述光刻胶树脂单体的结构通式为式I：
式I中，R1为饱和烷烃或者环烷烃，R2为氢或者甲基。
2.根据权利要求1所述的一种光刻胶树脂单体，其特征在于，所述光刻胶树脂单体的结构式为式II、式III、式IV、式V、式VI和式VII中的一种：
3.一种如权利要求1或2所述的光刻胶树脂单体的合成方法，其特征在于，包括以下步骤：
在惰性气体保护下，将3,3,6,6-四甲基双环[2.2.1]庚烷-2,5-二酮与烷基格氏试剂或者环烷基格氏试剂置于第一溶剂中进行格氏反应，格氏反应结束后加水淬灭，并经后处理纯化，得到中间体；
将所述中间体与丙烯酰氯或者甲基丙烯酰氯置于第二溶剂中进行酯化反应，酯化反应结束后，经后处理纯化，得到所述的光刻胶树脂单体。
4.根据权利要求3所述的一种光刻胶树脂单体的合成方法，其特征在于，所述格氏反应的温度为0～30℃；酯化反应的温度为0～70℃。
5.根据权利要求3所述的一种光刻胶树脂单体的合成方法，其特征在于，所述第一溶剂为无水乙醚。
6.根据权利要求3所述的一种光刻胶树脂单体的合成方法，其特征在于，所述第二溶剂为无水四氢呋喃、甲苯和氯仿中的一种。
7.根据权利要求3或6所述的一种光刻胶树脂单体的合成方法，其特征在于，所述第二溶剂中添加有三乙胺或者吡啶。
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