[发明专利]一种近红外滤光片在审
申请号: | 201911372834.4 | 申请日: | 2019-12-27 |
公开(公告)号: | CN111175873A | 公开(公告)日: | 2020-05-19 |
发明(设计)人: | 李爽 | 申请(专利权)人: | 光驰科技(上海)有限公司 |
主分类号: | G02B5/20 | 分类号: | G02B5/20;G02B5/28 |
代理公司: | 上海申蒙商标专利代理有限公司 31214 | 代理人: | 周宇凡 |
地址: | 200444 上海市宝*** | 国省代码: | 上海;31 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 红外 滤光 | ||
1.一种近红外滤光片,其特征在于:包括交替堆叠的高折射率层和低折射率层,其中所述高折射率层为掺碳氢化硅层或掺碳氢化锗层。
2.根据权利要求1所述的一种近红外滤光片,其特征在于:所述近红外滤光片还包括基体,所述高折射率层和低折射率层交替堆叠沉积在所述基体的表面。
3.根据权利要求2所述的一种近红外滤光片,其特征在于:所述高折射率层作为沉积于所述基体上的最内层,所述低折射率层作为沉积于所述基体上的最外层。
4.根据权利要求1所述的一种近红外滤光片,其特征在于:所述低折射率层为二氧化硅低折射率层。
5.根据权利要求1所述的一种近红外滤光片,其特征在于:所述高折射率层内的活性碳占活性炭与活性氢总量的2%-10%。
6.根据权利要求1所述的一种近红外滤光片,其特征在于:由所述高折射率层和所述低折射率层所构成的膜系的设计厚度范围2-10μm。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于光驰科技(上海)有限公司,未经光驰科技(上海)有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201911372834.4/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种N型单晶硅片的制备方法
- 下一篇:一种机联网系统的设备信息采集系统