[发明专利]一种用一支真空漏孔校准真空计的校准装置及方法

权利要求书

1.一种用一支真空漏孔校准真空计的校准装置的校准方法，其特征在于，包括如下步骤：

所述校准装置包括供气系统、稳压室(8)、真空漏孔(10)、校准室(12)和抽气系统；

其中，供气系统与稳压室(8)连接，稳压室(8)通过真空漏孔(10)与校准室(12)连接，被校真空计(13)连接在校准室(12)上；抽气系统用于对稳压室(8)和校准室(12)抽真空；

步骤1，开启抽气系统，对稳压室、真空漏孔和校准室抽真空；

步骤2，关闭抽气系统，关闭稳压室与真空漏孔之间的阀门A；打开供气系统，将一定压力的气体引入稳压室；当稳压室中的气体达到一定压力后，关闭供气系统，平衡稳压室中气体压力；

步骤3，打开阀门A，稳压室内的气体经真空漏孔流入校准室；

步骤4，每间隔一段时间，记录被校真空计的读数及测量时刻；

根据真空漏孔的漏率计算得到测量时刻稳压室的理论压力值，即标准压力；通过对比同一测量时刻下被校真空计的读数与标准压力，实现对被校真空计的校准。

2.如权利要求1所述的校准方法，其特征在于，测量时刻t_i时，稳压室的标准压力p_si为：其中，Q为真空漏孔的漏率，t₀为初始测量时刻；V为校准室的有效容积；则标准压力p_si对应的被校真空计的校准系数C_i为：

其中p_i和p₀分别为被校真空计在测量时刻t_i和初始测量时刻t₀的读数。

3.如权利要求1所述的校准方法，其特征在于，所述供气系统包括多个气瓶，提供不同种类不同压力的气体。

4.如权利要求1所述的校准方法，其特征在于，稳压室的体积大于10L。

5.如权利要求1所述的校准方法，其特征在于，校准室的气体压力本底小于被校真空计下限的2％。

6.如权利要求1所述的校准方法，其特征在于，校准室的体积大于1L。