[发明专利]等离子体处理设备

权利要求书

1.一种等离子体处理设备，其特征在于，包括：

反应腔（10）；

基座（9），位于所述反应腔（10）内底部，其内具有冷却通道；

设备板（2），位于所述基座（9）的下方；

静电夹盘（1），位于所述基座（9）上，用于吸附待处理基片（W）；

射频杆（5），与所述设备板（2）连接；

射频电源（20），通过匹配器与所述射频杆（5）连接；

绝缘管道（4），通过所述设备板（2）上的通道连接所述冷却通道，用于输送绝缘液体；

抗静电涂层（42），涂覆于所述绝缘管道的内壁和/或外壁，包括绝缘基体和抗静电剂，所述抗静电剂的浓度范围为1%～20%，所述抗静电涂层接地；

其中，所述抗静电剂包括烷基季铵、磷或鏻盐烷基季铵、磷或鏻盐、烷基磺酸、磷酸或二硫代氨基甲酸的碱金属盐、乙氧基化脂肪族烷基胺其中一种或几种。

2.如权利要求1所述的等离子体处理设备，其特征在于，所述抗静电涂层（42）布置于所述绝缘管道（4）的内壁局部或者/和外壁局部；或者/和，

所述抗静电涂层（42）布置于所述绝缘管道的内壁整体或者/和外壁整体。

3.如权利要求1所述的等离子体处理设备，其特征在于，所述绝缘管道整个外壁设置所述抗静电涂层（42），所述绝缘管道与所述设备板（2）之间通过金属接头配合连接，所述抗静电涂层（42）部分与所述金属接头接触，所述绝缘管道通过所述金属接头连通内壁和外壁。

4.如权利要求1所述的等离子体处理设备，其特征在于，混合均匀的所述绝缘基体和抗静电剂涂覆于所述绝缘管道上。

5.如权利要求1所述的等离子体处理设备，其特征在于，还包括隔离块（6），所述射频杆（5）的内端连接所述设备板（2），外端部分管段穿过所述隔离块（6）连接于接地部件。

6.如权利要求1至5任一项所述的等离子体处理设备，其特征在于，还包括金属流量计，位于所述反应腔外部且设置于所述绝缘管道（4）与所述外部冷却设备的连接管路，所述绝缘管道还包括外端接口段，用于与所述金属流量计配合安装，所绝缘管道（4）的抗静电涂层（42）部分与所述金属流量计接触，所述金属流量计接地设置。

7.如权利要求6所述的等离子体处理设备，其特征在于，所述抗静电涂层（42）由与所述设备板（2）接触的位置沿轴向延伸至所述外端接口段。