[发明专利]应用于硅基光电子芯片晶圆级在线测试的混合探卡在审

专利信息
申请号: 201911370040.4 申请日: 2019-12-26
公开(公告)号: CN111123072A 公开(公告)日: 2020-05-08
发明(设计)人: 冯朋;肖希;王磊;李淼峰 申请(专利权)人: 武汉邮电科学研究院有限公司;武汉光谷信息光电子创新中心有限公司
主分类号: G01R31/28 分类号: G01R31/28;G01R31/311
代理公司: 武汉智权专利代理事务所(特殊普通合伙) 42225 代理人: 邱云雷
地址: 430074 湖*** 国省代码: 湖北;42
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 应用于 光电子 芯片 晶圆级 在线 测试 混合
【说明书】:

发明公开了一种应用于硅基光电子芯片晶圆级在线测试的混合探卡,涉及硅光子与光电子集成领域。该混合探卡包括凹形槽阵列衬底、固定在凹形槽阵列衬底上的光纤探针阵列、与光纤探针阵列相连的光纤连接端口阵列、用于控制光纤探针阵列移动的光纤探针阵列控制臂、直流探针阵列、直流探针阵列引出的直流连接端口排线、高频探针阵列、高频探针阵列引出的高频连接端口阵列、用于控制直流探针阵列和高频探针阵列移动的直流高频探针阵列控制臂。本发明能降低硅基光电子芯片晶圆级在线测试的测试成本和测试风险,提高测试效率,兼容大多数硅基光电子芯片的布局。

技术领域

本发明涉及硅光子与光电子集成领域,具体是涉及一种应用于硅基光电子芯片晶圆级在线测试的混合探卡。

背景技术

在光电子集成芯片与器件中,光电子芯片测试涉及到光学对准与耦合,无法像CMOS(Complementary Metal Oxide Semiconductor,互补金属氧化物半导体)工艺制备的电芯片一样,通过一个集成探针卡实现晶圆级在线测试。

在实现本发明的过程中,发明人发现现有技术中至少存在如下问题:尽管市场上已经推出硅基光电子晶圆测试设备,但该设备需要两个马达控制两路光自动耦合,且需要两个额外的探针座分别控制直流探针与高频探针,不仅测试芯片类型受限,而且布局复杂,风险较高,测试效率低,且测试成本高。

发明内容

本发明的目的是为了克服上述背景技术的不足,提供一种应用于硅基光电子芯片晶圆级在线测试的混合探卡,能够降低硅基光电子芯片晶圆级在线测试的测试成本和测试风险,提高测试效率,兼容大多数硅基光电子芯片的布局。

第一方面,提供一种应用于硅基光电子芯片晶圆级在线测试的混合探卡,包括凹形槽阵列衬底、固定在凹形槽阵列衬底上的光纤探针阵列、与光纤探针阵列相连的光纤连接端口阵列、用于控制光纤探针阵列移动的光纤探针阵列控制臂、直流探针阵列、直流探针阵列引出的直流连接端口排线、高频探针阵列、高频探针阵列引出的高频连接端口阵列、用于控制直流探针阵列和高频探针阵列移动的直流高频探针阵列控制臂。

根据第一方面,在第一方面的第一种可能的实现方式中,所述光纤探针阵列中的光纤模斑与待测硅基光电子芯片的端面耦合器阵列的模斑匹配。

根据第一方面,在第一方面的第二种可能的实现方式中,所述光纤探针阵列中光纤的尖端为透镜、锥形、平面或斜面。

根据第一方面,在第一方面的第三种可能的实现方式中,所述光纤探针阵列的材料为硅、二氧化硅、氮化硅或聚合物。

根据第一方面,在第一方面的第四种可能的实现方式中,所述凹形槽阵列衬底的槽结构为V形槽或U形槽,材料为硅、二氧化硅、氮化硅或聚合物。

根据第一方面,在第一方面的第五种可能的实现方式中,所述凹形槽阵列衬底的底部集成面光源与面探测器,用于探测凹形槽阵列衬底的底部距离待测硅基光电子芯片的垂直高度;背部集成面光源与面探测器,用于探测划片槽边缘到凹形槽阵列衬底的水平距离。

根据第一方面,在第一方面的第六种可能的实现方式中,所述直流探针阵列的尖端为椭圆形、圆形或弧形,材料为钨铜、铜或金。

根据第一方面,在第一方面的第七种可能的实现方式中,所述高频探针阵列中探针类型为单端探针或差分探针。

根据第一方面,在第一方面的第八种可能的实现方式中,所述光纤探针阵列控制臂级联纳米压电陶瓷,用于控制六维移动,实现高精度自动光耦合。

根据第一方面,在第一方面的第九种可能的实现方式中,所述直流高频探针阵列控制臂级联六轴控制器,用于控制直流探针阵列和高频探针阵列移动。

与现有技术相比,本发明的优点如下:

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于武汉邮电科学研究院有限公司;武汉光谷信息光电子创新中心有限公司,未经武汉邮电科学研究院有限公司;武汉光谷信息光电子创新中心有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201911370040.4/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top