[发明专利]一种电离室以及控制电离室温度的方法

权利要求书

1.一种电离室，其特征在于，包括：

电离室本体；

供电装置，与加热装置相连接，用于向所述加热装置提供加热功率；

所述加热装置，设置在所述电离室本体的外围，用于对所述电离室本体进行加热。

2.根据权利要求1所述的电离室，其特征在于，还包括：

第一温度传感器，用于获取所述加热装置的当前温度。

3.根据权利要求2所述的电离室，其特征在于，所述供电装置为独立供电电源；

所述独立供电电源，与控制器相连接，用于接收所述控制器发送的供电控制信号。

4.根据权利要求3所述的电离室，其特征在于，所述控制器，用于接收所述当前温度，并根据所述当前温度生成与所述当前温度相对应的供电控制信号发送至所述独立供电电源，以使所述独立供电电源根据所述供电控制信号对所述加热装置进行供电。

5.根据权利要求2所述的电离室，其特征在于，所述供电装置为放疗系统，与所述第一温度传感器相连接，用于接收所述当前温度，并根据所述当前温度调节对所述加热装置施加的供电功率。

6.根据权利要求1所述的电离室，其特征在于，还包括：

第二温度传感器，设置在所述电离室本体的内壁上，用于检测电离室内部温度。

7.根据权利要求1所述的电离室，其特征在于，所述加热装置包括加热层和/或至少一个加热电阻。

8.根据权利要求7所述的电离室，其特征在于，还包括：

导热装置，铺设在所述电离室的外围与所述加热装置之间，用于对所述加热装置释放的热量进行热传导。

9.根据权利要求1所述的电离室，其特征在于，还包括：

至少一个对流装置，设置在所述电离室的外部，用于调节所述电离室的空气对流速度。

10.一种控制电离室温度的方法，其特征在于，包括：

供电装置接收供电控制信号；

基于所述供电控制信号对所加热装置进行供电，以使电离室的温度在预设温度范围之内。