[发明专利]底部发射垂直腔面发射激光器在审

专利信息
申请号: 201911365489.1 申请日: 2019-12-26
公开(公告)号: CN111162451A 公开(公告)日: 2020-05-15
发明(设计)人: 沈志强 申请(专利权)人: 浙江博升光电科技有限公司
主分类号: H01S5/183 分类号: H01S5/183;H01S5/00
代理公司: 北京志霖恒远知识产权代理事务所(普通合伙) 11435 代理人: 郭栋梁
地址: 314116 浙江省*** 国省代码: 浙江;33
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摘要:
搜索关键词: 底部 发射 垂直 激光器
【权利要求书】:

1.一种底部发射垂直腔面发射激光器,至少一个发光单元,所述发光单元包括层叠设置的衬底、第一反射器层、有源层、氧化层、第二反射器层及顶部电极,所述氧化层具有限定激光出射窗口的非氧化区,其特征在于,所述衬底上形成有用于改变所述激光出射窗口所出射激光光路的光学结构。

2.根据权利要求1所述的底部发射垂直腔面发射激光器,其特征在于,在所述衬底的底面刻蚀形成所述光学结构;或者,

在所述衬底的底面通过3D打印形成所述光学结构;或者,

在所述衬底的底部形成透光层,在所述透光层的底面通过刻蚀、压印或3D打印形成所述光学结构。

3.根据权利要求1所述的底部发射垂直腔面发射激光器,其特征在于,所述光学结构为光栅、菲涅尔透镜、凸透镜、凹透镜、凸透镜阵列和凹透镜阵列中的至少一种。

4.根据权利要求1所述的底部发射垂直腔面发射激光器,其特征在于,所述光学结构为光栅,所述光栅为亚波长光栅或衍射光栅。

5.根据权利要求4所述的底部发射垂直腔面发射激光器,其特征在于,所述光栅包括多个光栅周期,同一所述光栅周期内的栅距相同或不同,栅条的宽度相同或不同;和/或,

不同光栅周期内的栅距相同或不同,栅条的宽度相同或不同。

6.根据权利要求5所述的底部发射垂直腔面发射激光器,其特征在于,所述光栅为单层光栅或多层光栅。

7.根据权利要求1-5任一项所述的底部发射垂直腔面发射激光器,其特征在于,包括多个所述发光单元和一个所述光学结构,所述光学结构覆盖各所述发光单元的光路。

8.根据权利要求1-5任一项所述的底部发射垂直腔面发射激光器,其特征在于,包括多个所述发光单元和多个所述光学结构,所述发光单元与所述光学结构一一对应设置,对应设置的所述发光单元与所述光学结构二者的光轴同轴设置或偏心设置。

9.根据权利要求1-5任一项所述的底部发射垂直腔面发射激光器,其特征在于,包括多个所述发光单元和多个所述光学结构,所述光学结构的数量少于所述发光单元的数量,每一所述光学结构独立的覆盖多个所述发光单元。

10.根据权利要求1-5任一项所述的底部发射垂直腔面发射激光器,其特征在于,包括多个所述发光单元,所述发光单元按预定规则排布或随机排布。

11.根据权利要求1-5任一项所述的底部发射垂直腔面发射激光器,其特征在于,所述第二反射器层的顶部,对应于所述激光出射窗口的位置设置有反射镜层,所述顶部电极位于所述反射镜层的外围。

12.根据权利要求11所述的底部发射垂直腔面发射激光器,其特征在于,所述反射镜层为HCG反射镜或HCM反射镜。

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