[发明专利]一种实时监控离子注入剂量的装置及使用方法有效
| 申请号: | 201911364392.9 | 申请日: | 2019-12-26 |
| 公开(公告)号: | CN111063600B | 公开(公告)日: | 2022-10-28 |
| 发明(设计)人: | 马富林;郑刚;曹志伟 | 申请(专利权)人: | 华虹半导体(无锡)有限公司 |
| 主分类号: | H01J37/244 | 分类号: | H01J37/244;H01J37/317;H01L21/67 |
| 代理公司: | 上海浦一知识产权代理有限公司 31211 | 代理人: | 戴广志 |
| 地址: | 214028 江*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 实时 监控 离子 注入 剂量 装置 使用方法 | ||
1.一种实时监控离子注入剂量的装置的使用方法,其特征在于,该方法至少包括以下步骤:
步骤一、套设在晶圆工作台边缘的圆环型边环杯,所述晶圆工作台上承载有晶圆,所述边环杯的环形宽度为5mm,外圈半径为165mm,所述晶圆工作台的半径为160mm;所述晶圆与所述边环杯上有水平扫描的离子束;所述晶圆工作台下设有接地引脚;所述接地引脚下方设有静电吸盘;所述边环杯向下延伸至所述静电吸盘的上方;所述接地引脚的个数为3个;所述静电吸盘的个数为2个;将边环杯套设在晶圆工作台上,在晶圆工作台上放置晶圆;
步骤二、使所述晶圆与所述边环杯所在的平面水平扫描离子束;所述离子束的路径为:由晶圆左边缘经过晶圆中心再扫到晶圆右边缘;
步骤三、根据所述离子束的宽度和边环杯的尺寸计算所述离子束经过所述晶圆中心上方某一点时所述边环杯的面积S2和电流值I2;
步骤四、根据所述离子束的宽度和边环杯的尺寸计算所述离子束经过所述晶圆中心时所述边环杯的面积S1和电流值I1;
步骤五、根据步骤三和步骤四的所述面积和电流值得到离子束流值同一水平位置束流的均匀性;得到所述离子束流值的方法包括:定义虚拟参数Dose1=I1/S1;Dose2=I2/S2;所述离子束流值Dose Ratio=Dose1/Dose2。
2.根据权利要求1所述的实时监控离子注入剂量的装置的使用方法,其特征在于:步骤一中所述边环杯的形状为圆环型,其宽度为5mm。
3.根据权利要求1所述的实时监控离子注入剂量的装置的使用方法,其特征在于:步骤二中所述离子束扫描的频率为1.2KHZ。
4.根据权利要求1所述的实时监控离子注入剂量的装置的使用方法,其特征在于:步骤三中所述离子束经过所述晶圆中心上方某一点的位置由所述离子束的扫描速度和扫描时间决定。
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