[发明专利]一种TD3合金表面抗氧化涂层的制备方法

权利要求书

1.一种TD3合金表面抗氧化涂层的制备方法，其特征在于：所述方法步骤如下：

(1)对基体进行表面进行清洁以及粗糙化处理，使其表面粗糙度为0.01μm～10μm；

(2)将粗糙化处理后的基体浸入NiO溶胶中并拉出，待基体表面上的NiO溶胶干燥后，再重复浸入-拉出-干燥直至基体表面形成所需厚度的过渡层；

(3)将浸涂过渡层后的基体浸入Al₂O₃-SiO₂溶胶中并拉出，待过渡层上的Al₂O₃-SiO₂溶胶干燥后，再重复浸入-拉出-干燥直至在过渡层上形成所需厚度的复相陶瓷层；

(4)将浸涂复相陶瓷层后的基体置于烧结炉中，先升温至(120±20)℃并保温1h～2h，再继续升温至(800±10)℃，保温2h～3h后随炉冷却；

(5)在5.0×10^-2Pa～5.0×10^-3Pa的真空条件下对基体上烧结后的涂层进行熔覆处理，则在基体上得到抗氧化涂层；

以Al₂O₃-SiO₂溶胶总质量为100％计，Al₂O₃-SiO₂溶胶中的组成成分及各成分的质量分数如下：SiO₂水溶液20％～30％，Al₂O₃纳米粉体40％～50％，Al₂O₃微米粉体10％～20％，Al(H₂PO₄)₃ 10％～20％以及Na₂SiO₃ 10％～20％，其中SiO₂水溶液的质量分数为20％～50％；

电子束熔覆的工艺参数：电子束功率为900W～1200W，扫描波形频率为10Hz～2000Hz，扫描速度为1mm/s～30mm/s，工作距离为200mm～500mm。

2.根据权利要求1所述的TD3合金表面抗氧化涂层的制备方法，其特征在于：步骤(2)中所用NiO溶胶的浓度为0.4mol/L～0.8mol/L。

3.根据权利要求1所述的TD3合金表面抗氧化涂层的制备方法，其特征在于：过渡层的厚度为10μm～15μm。

4.根据权利要求1所述的TD3合金表面抗氧化涂层的制备方法，其特征在于：Al₂O₃纳米粉体的粒径为30nm～50nm，Al₂O₃微米粉体的粒径为0.5μm～5μm。

5.根据权利要求1所述的TD3合金表面抗氧化涂层的制备方法，其特征在于：SiO₂水溶液、Al₂O₃纳米粉体、Al₂O₃微米粉体、Al(H₂PO₄)₃以及Na₂SiO₃的质量比为2:5:1:1:1。

6.根据权利要求1所述的TD3合金表面抗氧化涂层的制备方法，其特征在于：复相陶瓷层的厚度为60μm～100μm。

7.根据权利要求1所述的TD3合金表面抗氧化涂层的制备方法，其特征在于：以5℃/min～8℃/min的升温速率升温至(120±20)℃，以3℃/min～5℃/min的升温速率升温至(800±10)℃。