[发明专利]一种电子设备

权利要求书

1.一种电子设备，其特征在于，包括介质基板、第一天线辐射臂、第二天线辐射臂和馈源，所述介质基板包括至少一层介质层，所述第一天线辐射臂和第二天线辐射臂设置在同一所述介质层的相背侧或者不同的所述介质层上，且第一天线辐射臂和所述第二天线辐射臂通过所述介质层的穿孔电连接，所述第二天线辐射臂与所述馈源电连接，所述第一天线辐射臂工作的频率大于所述第二天线辐射臂工作的频率；所述介质基板包括第一介质层，所述第一介质层为后盖，所述第一天线辐射臂到所述后盖外侧的距离小于所述第二天线辐射臂到所述后盖外侧的距离；所述介质基板还包括第二介质层，所述第二介质层位于所述后盖的内侧，所述第一天线辐射臂设于所述后盖上，所述第二天线辐射臂设于所述第二介质层上。

2.根据权利要求1所述的电子设备，其特征在于，所述第一介质层与所述第二介质层之间对应第一穿孔的位置设有第一金属触点，所述第一天线辐射臂与所述第二天线辐射臂通过所述第一金属触点以及所述第一穿孔进行电连接，其中，所述第一金属触点包括所述第一介质层朝向所述第二介质层的一侧设置的第一金属凸点和所述第二介质层朝向所述第一介质层的一侧设置的第二金属凸点，所述第一金属凸点与所述第一天线辐射臂电连接，所述第二金属凸点与所述第二天线辐射臂电连接，所述第一穿孔包括设置在所述第一介质层和/或所述第二介质层的穿孔。

3.根据权利要求1所述的电子设备，其特征在于，所述介质基板还包括第三介质层，所述第三介质层设置在所述第二介质层背离第一介质层的一侧，所述电子设备还包括设于所述第三介质层的第三天线辐射臂，所述第三天线辐射臂工作的频率小于所述第一天线辐射臂工作的频率，且所述第三天线辐射臂的工作的频率大于所述第二天线辐射臂工作的频率。

4.根据权利要求3所述的电子设备，其特征在于，所述第二介质层与所述第三介质层之间对应第二穿孔的位置设有第二金属触点，所述第二天线辐射臂与所述第三天线辐射臂通过所述第二金属触点以及所述第二穿孔进行电连接，其中，所述第二金属触点包括所述第二介质层朝向所述第三介质层的一侧设置的第三金属凸点和所述第三介质层朝向所述第二介质层的一侧设置的第四金属凸点，所述第三金属凸点与所述第二天线辐射臂电连接，所述第四金属凸点与所述第三天线辐射臂电连接，所述第二穿孔包括设置在所述第二介质层和/或所述第三介质层的穿孔。

5.根据权利要求3所述的电子设备，其特征在于，所述第三天线辐射臂工作在中频段。

6.根据权利要求3所述的电子设备，其特征在于，所述第三介质层为中框。

7.根据权利要求1所述的电子设备，其特征在于，所述第二介质层为天线支架。

8.根据权利要求1至7中任一项所述的电子设备，其特征在于，所述第一天线辐射臂工作在高频段。

9.根据权利要求1至7中任一项所述的电子设备，其特征在于，所述第二天线辐射臂工作在低频段。